掩膜版結(jié)構(gòu)

時間：2021-11-15作者：北京華諾恒宇光能科技有限公司瀏覽：556

掩膜版結(jié)構(gòu)

業(yè)內(nèi)又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質(zhì)：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設(shè)計好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應(yīng)用于對集成電路進行投影定位，通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序為：曝光，顯影，去感光膠，z后應(yīng)用于光蝕刻。

結(jié)構(gòu)

實體結(jié)構(gòu)：布滿集成電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。

倍縮光掩模（Reticle）：當(dāng)鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光掩模，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。

光掩模（Mask）：當(dāng)鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。

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編輯精選內(nèi)容：

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• 詞條

  詞條說明

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