一般來說,銅的提取方法包括通過泡沫浮選將破碎的硫化銅礦(如黃銅礦)進(jìn)行濃縮,產(chǎn)生濃度等級(jí)約為20-30%的銅(Cu)。然后將硅助焊劑與精礦混合。經(jīng)閃速熔煉、轉(zhuǎn)化和陽(yáng)極鑄造后,成品(99.0%純銅)加入煉廠,得到99.9%純銅。
閃速熔煉中熔渣的冰銅等級(jí)和質(zhì)量是影響后續(xù)熔煉過程(如轉(zhuǎn)換和精煉)和總生產(chǎn)率的兩個(gè)較重要的因素。冰銅的低濃度意味著銅回收率不高,而冰銅中的鐵(主要成分為硫化鐵)的含量會(huì)影響轉(zhuǎn)爐的運(yùn)行。冰銅的適宜濃度為48%,鐵的適宜濃度為10%。通過改變總氧輸入(在空氣中或富氧空氣中)與濃度進(jìn)料率的比率來調(diào)整消光水平。不適當(dāng)?shù)恼{(diào)整可能導(dǎo)致生產(chǎn)力降低,例如熔渣中銅的損失和/或資源的浪費(fèi)(工時(shí)和能源)。
為了研究手持式合金分析儀在銅冶煉過程控制中的應(yīng)用,從銅冶煉廠中采集了一系列樣品,用于監(jiān)測(cè)銅锍成分。樣品直接使用手持合金分析儀測(cè)量,*進(jìn)一步的樣品制備。由于樣品的高導(dǎo)熱性和分析儀處理熱樣品的能力,我們不需要等待樣品冷卻,樣品取樣后幾分鐘就可以得到。
使用臺(tái)達(dá)手持合金分析儀監(jiān)測(cè)冶煉過程,操作人員可以跟蹤磨砂成分,看選擇時(shí)候磨砂準(zhǔn)備轉(zhuǎn)移到轉(zhuǎn)爐。在本研究中,**個(gè)含56%銅但含17%鐵的锍樣品不符合轉(zhuǎn)移到轉(zhuǎn)爐的銅-鐵濃度標(biāo)準(zhǔn)。高濃度的鐵在亞光需要較高的氧輸入燃燒硫和氧化鐵。添加額外的二氧化硅與氧化鐵反應(yīng),將鐵吸入渣相。隨著空氣和二氧化硅的增加,更多的鐵被排斥到渣相中,導(dǎo)致冰銅中鐵的濃度降低,從而提高冰銅品位。
為了確認(rèn)手持合金分析儀的測(cè)量結(jié)果,所有樣品都被送到實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)分析。顯示了現(xiàn)場(chǎng)手持合金分析儀測(cè)量銅和鐵與實(shí)驗(yàn)室中ICP分析的相關(guān)性。應(yīng)該指出的是,運(yùn)行ICP分析每個(gè)樣品需要幾個(gè)小時(shí),而手持合金分析儀可以在幾秒鐘內(nèi)完成結(jié)果。結(jié)果表明,該手持合金分析儀適用于現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)測(cè)。
詞條
詞條說明
金屬的光譜分析法是指通過分析樣品的光譜特性來定量其中不同元素的含量。以較為**的直讀光譜儀為例,具體分析過程包括:1.通過電容火花放電的方式使被測(cè)金屬表面蒸發(fā)形成原子蒸汽,由于受到高能激發(fā),這些原子的核外電子會(huì)從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài),由于激發(fā)態(tài)的電子處于不穩(wěn)態(tài),會(huì)躍遷回基態(tài),并放出光子,形成光源。2.不同的元素其發(fā)出的光子特征波長(zhǎng)不一樣。將光源的光通過分光系統(tǒng)分光后,由光電檢測(cè)器檢測(cè)各個(gè)元素特征波長(zhǎng)上
X熒光光譜儀(XRF)由激發(fā)源(X射線管)和探測(cè)系統(tǒng)構(gòu)成。X射線管產(chǎn)生入射X射線(一次X射線),激發(fā)被測(cè)樣品。受激發(fā)的樣品中的每一種元素會(huì)放射出二次X射線,并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長(zhǎng)特性。探測(cè)系統(tǒng)測(cè)量這些放射出來的二次X射線的能量及數(shù)量。然后,儀器軟件將探測(cè)系統(tǒng)所收集到的信息轉(zhuǎn)換成樣品中各種元素的種類及含量。近年來,X熒光光譜分析在各行業(yè)應(yīng)用范圍不斷拓展,已成為一種
金屬材料是可以做成分鑒定的,檢測(cè)的項(xiàng)目包括硬度檢測(cè)、牌號(hào)鑒定、元素分析、物理性能、力學(xué)性能、工藝性能、失效分析、金相檢驗(yàn)、腐蝕性能、無損檢驗(yàn)。金屬成分分析是指利用大型分析檢測(cè)儀器對(duì)金屬材料或制品進(jìn)行分析檢測(cè),確定其成分和含量,用于了解金屬的材質(zhì)和質(zhì)量。檢測(cè)時(shí)選擇一家專業(yè)的檢測(cè)機(jī)構(gòu)是非常重要的。上海復(fù)旦復(fù)達(dá)科技有限公司擁有博士工程師、碩士工程師助理等分析技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)!國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室技術(shù)平臺(tái),**儀
● 1.熒光X射線微小面積鍍層厚度測(cè)量?jī)x的特征*可測(cè)量電鍍、蒸鍍、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度。*可通過CCD攝像機(jī)來觀察及選擇任意的微小面積以進(jìn)行微小面積鍍層厚度的測(cè)量,避免直接接觸或破壞被測(cè)物。*薄膜FP法軟件是標(biāo)準(zhǔn)配置,可同時(shí)對(duì)多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進(jìn)行測(cè)量。此外,適用于無鉛焊錫的應(yīng)用。*備有250種以上的鍍層厚度測(cè)量和成分分析時(shí)所需的標(biāo)準(zhǔn)樣品。(SII**)● 2.測(cè)量原理如圖1所示,
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