真空電鍍的特點(diǎn)

時(shí)間：2021-10-14作者：東莞市嶸峰塑膠五金制品有限公司瀏覽：230

1. 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形狀
2. 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴。
3. 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低。
4. 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾。
5. 對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷。


6. 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等


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  詞條說明

• 真空電鍍的特點(diǎn)

  1. 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形狀2. 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴。3. 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低。4. 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾。5. 對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷。6. 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC

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