X射線光譜方法測(cè)定

時(shí)間：2019-12-23作者：深圳市啟威測(cè)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司瀏覽：259

X射線光譜方法測(cè)定覆蓋層厚度是基于一束強(qiáng)烈而狹窄的多色X射線與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長(zhǎng)和能量的二次輻射，這些二次輻射具有構(gòu)成覆蓋層和基體元素特征。覆蓋層單位面積質(zhì)量（若密度已知，則為覆蓋層線性厚度）和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知，同時(shí)又給出實(shí)際的密度，則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。
測(cè)試設(shè)備：X射線熒光測(cè)厚儀
參考標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 16921, ISO 3497,ASTM B568

掃描電鏡法是通過(guò)從待測(cè)試樣上*部位垂直于覆蓋層切割一塊試樣，經(jīng)過(guò)鑲嵌、研磨、拋光和浸蝕制成橫截面金相試樣，利用掃描電子顯微鏡進(jìn)行鍍層厚度測(cè)量。
測(cè)試設(shè)備：掃描電子顯微鏡
參考標(biāo)準(zhǔn)：JB/T 7503, ISO 9220,ASTM B748
深圳市啟威測(cè)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司專(zhuān)注于表面微觀形貌SEM,材料斷口觀察SEM,表面成分分析EDS,微量污染物成分分析,涂鍍層厚度測(cè)試,表面粗糙度量測(cè)等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 表面微觀形貌的測(cè)量與評(píng)定

  表面形貌評(píng)定的**在于對(duì)特征信號(hào)無(wú)失真的提取和對(duì)使用性能的量化評(píng)定，國(guó)內(nèi)外學(xué)者在這一方面做了?大量工作，提出了許多分離與重構(gòu)方法。隨著當(dāng)今微機(jī)處理技術(shù)、集成電路技術(shù)、機(jī)電一體化技術(shù)等的發(fā)展。出現(xiàn)了用分形法、Motif法、功能參數(shù)集法、時(shí)間序列技術(shù)分析法、小二乘多項(xiàng)式擬合法、濾波法等各種評(píng)定理論與方法，**了顯著進(jìn)展。表面是由粗糙度，波紋度和表面形狀誤差3個(gè)部分構(gòu)成的。隨著現(xiàn)代測(cè)量精度的不

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  SEM的二次電子成像分辨率約3nm背散射電子成像分辨率約300nmEDS成分分析的元素范圍Be~U分析深度約1μm檢測(cè)下限約1%空間分辨率約1μmSEM+?EDS常規(guī)服務(wù)項(xiàng)目:各種固體材料的形貌分析微區(qū)化學(xué)成分檢測(cè)樣品成分的線分布和面分布分析機(jī)械探針式測(cè)量方法:探針式輪廓儀測(cè)量范圍大，測(cè)量精度高，但它是一種點(diǎn)掃描測(cè)量，測(cè)量費(fèi)時(shí)。機(jī)械探針式測(cè)量方法是開(kāi)發(fā)較早、研究充分的一一種表面輪廓測(cè)量方

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  焦離子束工作原理：? 聚焦離子束顯微鏡(FIB)的利用鎵(Ga)金屬作為離子源，再加上負(fù)電場(chǎng)?(Extractor)?牽引**細(xì)小的鎵原子，而導(dǎo)出鎵離子束再以電透鏡聚焦，經(jīng)過(guò)一連串可變孔徑光闌，決定離子束的大小，再經(jīng)過(guò)二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面，利用物理碰撞來(lái)進(jìn)行特定圖案的加工，一般單粒子束的FIB(Single Beam FIB)，可以提供材料切割、沉積金屬、

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  用肉眼（目視）或在不大于10倍的放大鏡下，檢驗(yàn)金屬的宏觀組織和缺陷稱為組織檢驗(yàn)。在實(shí)驗(yàn)室中，常用的檢驗(yàn)方法有酸蝕低倍檢驗(yàn)、斷口檢驗(yàn)、塔形車(chē)削發(fā)紋檢驗(yàn)和硫印試驗(yàn)等。酸蝕低倍檢驗(yàn)，這是一種將制備好的試樣，經(jīng)過(guò)酸液腐蝕以后，來(lái)顯示試樣的宏觀組織的檢驗(yàn)。而根據(jù)酸液溫度的不同，又可以分為熱酸蝕和冷酸蝕兩種檢驗(yàn)。按GB/T1979評(píng)級(jí)圖對(duì)照低倍組織缺陷圖來(lái)進(jìn)行評(píng)級(jí)。，通過(guò)放大鏡，在酸蝕后的試片上可以發(fā)現(xiàn)各種皮