硅的發(fā)現(xiàn)及行業(yè)發(fā)展（二）

時間：2016-05-26

	硅行業(yè)發(fā)展歷程


	從20世紀50年代開始，各個研究小組開始了硅的研究工作，研究小組主要包括：貝爾實驗室的G.K.迪爾(Teal)小組，主要研究硅單晶的生長；西門子集團的W.Heywang小組與豪斯科(Halske)材料研究實驗室，主要研究硅的純化，制出高純硅；在普萊茨菲爾德(Pretzfeld)的E.斯潘科(E.Spenke)**下的實驗室也加入到硅的研究工作中。


	1957年基爾比(Killby)搭建了**批功能化的集成電路。1960年貝爾實驗室的康(Kahng)和艾塔拉(Atalla)**研制出MOS晶體管。這兩項發(fā)明為硅集成電路在信息技術市場中的大規(guī)模應用開辟了道路。


	硅的大規(guī)模生產(chǎn)主要采用兩種方法：


	


	1.    垂直區(qū)熔法：1952年由貝爾實驗室斯尤爾(K.H.Theuerer)等和西門子的K.斯伯茨(K.Siebertz)與H.漢克(H.Henker)發(fā)明，經(jīng)過若干技術改進，適用于大規(guī)模生產(chǎn)，可以制造直徑為幾厘米，278長度**過1米的硅棒，然而由于該法自身在物理上的局限，致使硅棒的直徑受到制約。


	


	2.    經(jīng)典坩堝提拉法：由于對較大直徑硅晶片持續(xù)增長的需求，垂直區(qū)熔法被根據(jù)切克勞斯基(czochralski)法設計的經(jīng)典坩堝提拉法取代，該方法在美國被廣泛使用。大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)高品質(zhì)單晶硅對于計算機通訊系統(tǒng)、傳感器、醫(yī)療設備、光伏器件、衛(wèi)星、宇宙飛船等都有重大影響，美國的貝爾實驗室、德州儀器公司、歐洲的菲利普、西門子和瓦克等**大公司抓住了機遇成為初期的硅生產(chǎn)廠家。到了20世紀六十年代，硅成為主要應用的半導體材料，到七十年代隨著激光、發(fā)光、微波、紅外技術的發(fā)展，一些化合物半導體和混晶半導體材料：如砷化鎵、硫化鎘、碳化硅、鎵鋁砷的應用有所發(fā)展。一些非晶態(tài)半導休和**半導休材料（如萘、蒽、以及金屬衍生物等）在一定范圍內(nèi)也有其半導體特性，也開始得到了應用。


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硅的發(fā)現(xiàn)及行業(yè)發(fā)展（二）
硅行業(yè)發(fā)展歷程從20世紀50年代開始，各個研究小組開始了硅的研究工作，研究小組主要包括：貝爾實驗室的G.K.迪爾(Teal)小組，主要研究硅單晶的生長；西門子集團的W.Heywang小組與豪斯科(Halske)材料研究實驗室，主要研究硅的純化，制出高純硅；在普萊茨菲爾德(Pretzfeld)的E.斯潘科(E.Spenke)**下的實驗室也加入到硅的研究工作中。 1957年基爾比(Killby)
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