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時間：2020-03-01作者：昆山市韓鋁化學表面材料有限公司瀏覽：70

粗蠟拋光：砂紙研磨后進一步去除表面砂紙痕，恢復漆面平整度和初始光澤。將蠟均勻涂抹在一定漆面區(qū)域內(nèi)（單次拋光面積在一臂展長寬范圍內(nèi)為宜）拋光機轉(zhuǎn)速控制在1200-2000轉(zhuǎn)之間。初期以中等偏上的壓力壓住拋光盤均速拋光漆面，觀察漆面，待砂紙痕明顯拋除后放松壓力將蠟痕拋開，回復漆面一定的光澤。拋光后應使用**細纖維布擦拭干凈漆面殘留的粗蠟和粉塵。質(zhì)量標準：去除砂紙在漆面上造成的砂紙痕，漆面呈現(xiàn)處部分光澤。2.2 鏡面拋光：去除粗蠟拋光殘留的圈紋，恢復車漆的原有光澤。質(zhì)量標準：漆面無明顯圈紋，出現(xiàn)鏡面效果，光澤度比拋光前得到有效改善。3、還原：找回車漆的本來面目，恢復新車般的狀態(tài)。質(zhì)量標準：光澤度明顯比拋光前得到改善，倒影清晰可見。為了確定使用研磨劑的種類，需對漆面問題進行判斷。在不明顯處的小塊面積使用研磨劑。研磨劑**選用輕度研磨劑，如果漆面缺陷較嚴重，考慮選用中度或重度研磨劑。



)溫度.對化學拋光的效率和表面質(zhì)量有重要的影響.溫度高拋光加速,但產(chǎn)生較多的氣體,有可能產(chǎn)生氣體缺陷.對于新配制的化學拋光槽液,溫度不宜太高；若溶鋁量達到平衡時操作溫度宜高些.隨著溶鋁量的增加,要維持一定的拋光效率就要提高槽液的溫度,如果槽液溫度**過設(shè)定的上限溫度105℃,仍不能得到滿意的光亮度,應根據(jù)化驗結(jié)果調(diào)整槽液濃度或相對密度.此外,還要注意保持槽液各處溫度的均勻性.



多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。氧化硅拋光液氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純?yōu)樵?，?jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。






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  硬質(zhì)陽極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多，以采用硫酸硬質(zhì)陽極化處理較普遍。采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化法時，應考慮影響氧化膜層的各因素。（1）硫酸氧化處理的濃度：常采用200-250 g/L，槽液的相對密度（室溫下）為1.12-1.15。（2）水：水是硬質(zhì)陽極氧化處理的主要成分，一般采用蒸餾水或冷開水，而不用自來水，因為自來水中含有氯離子，當Cl- >1%時，其制件在氧化過程中就

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  工藝規(guī)范 1、開槽：整平光亮液(開槽液) 2、生產(chǎn)：溫度：95～110℃時間：1～5min 3、添加：當槽液液面不能滿足生產(chǎn)要求時，應及時補充添加液。補充添加液時一定要補充到初始液位。添加后，應充分攪拌槽液，然后開始生產(chǎn)。 4、管理：整平光亮槽管理非常簡單，及時按比例添加即可，溶解與帶出的AL3+可達到平衡，槽液壽命在3年以上。 5、消耗：鋁耗比酸蝕低，與拋光相當；整平光亮劑消耗約為200～25

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  粗蠟拋光：砂紙研磨后進一步去除表面砂紙痕，恢復漆面平整度和初始光澤。將蠟均勻涂抹在一定漆面區(qū)域內(nèi)（單次拋光面積在一臂展長寬范圍內(nèi)為宜）拋光機轉(zhuǎn)速控制在1200-2000轉(zhuǎn)之間。初期以中等偏上的壓力壓住拋光盤均速拋光漆面，觀察漆面，待砂紙痕明顯拋除后放松壓力將蠟痕拋開，回復漆面一定的光澤。拋光后應使用**細纖維布擦拭干凈漆面殘留的粗蠟和粉塵。質(zhì)量標準：去除砂紙在漆面上造成的砂紙痕，漆面呈現(xiàn)處部分光澤。

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  1、本拋光液在其使用初期會產(chǎn)生泡沫，因此拋光液液面與拋光槽**部之間的距離不應≥15cm；2、 不銹鋼工件在進入拋光槽之前應盡可能將殘留在工件表面的水分除去，因工件夾帶過多水分有可能造成拋光面出現(xiàn)麻點，局部浸蝕而導致工件報廢；3、在電解拋光過程中，作為陽極的不銹鋼配件，因其所含的鐵、鉻元素不斷轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘匐x子溶入拋光液內(nèi)而不在陰極表面沉積。隨著化學反應的進行，金屬離子濃度會不斷增加，當達到一定濃度后，