國(guó)內(nèi)某 OLED 鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó) HVA 真空閥門(mén) 11000 系列,尺寸以 4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,
HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:
下圖是某 OLED 鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美國(guó) HVA 高真空閥門(mén)
OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,
對(duì)于生產(chǎn) OLED 鍍膜機(jī)的客戶, 為了節(jié)省抽空時(shí)間和防止基片的污染, 會(huì)選擇在 LOADLOCK 與主腔間進(jìn)行快速傳樣, 由于兩腔室工作的真空度要求不同, 會(huì)在腔室之間增加高真空閥門(mén)來(lái)隔離系統(tǒng).
伯東美國(guó) HVA 真空閥門(mén)已廣泛應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)
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上海伯東 : 羅先生
詞條
詞條說(shuō)明
HVA 真空閥門(mén) 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)
國(guó)內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó)?HVA?真空閥門(mén)?11000?系列,尺寸以?4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):?-?閥門(mén)主體?304&
KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來(lái)刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,
HVA 真空閥門(mén) 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)
國(guó)內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó)?HVA?真空閥門(mén)?11000?系列,尺寸以?4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美
HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)
因產(chǎn)品配置不同,價(jià)格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機(jī): 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室
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