啥，你不知道磁控濺射鍍膜就是真空鍍膜？

時(shí)間：2022-05-10作者：深圳森豐真空鍍膜有限公司瀏覽：207

啥，你不知道磁控濺射鍍膜就是真空鍍膜？那讓我告訴你，磁控濺射鍍膜確實(shí)是屬于真空鍍膜！

磁控濺射鍍膜－濺射原理：是加工時(shí)達(dá)到真空條件，一般控制在1.013*10-1-1.3*10-6Pa，加工室內(nèi)通入Ar（氬氣），并啟動(dòng)DC鍵，Ar發(fā)作電離產(chǎn)生氬離子，在電場(chǎng)效果下，電子會(huì)加快飛向陽(yáng)極，在電場(chǎng)效果下，Ar+會(huì)加快飛向陰極的靶材，靶材粒子及二次電子被擊出，前者到達(dá)基片表面進(jìn)行薄膜生長(zhǎng)，后者被加快至陰極途中促成更多的電離。筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近，延長(zhǎng)其在等離子體中的運(yùn)動(dòng)軌道，加速它與氣體分子磕碰和電離過程的幾率的效果。

相對(duì)蒸發(fā)鍍，磁控濺射鍍膜有如下的特點(diǎn)：

1、膜厚可控性和重復(fù)性好；

2、薄膜與基片的附著力強(qiáng)；

3、能夠制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包含合金，化合物等；

4、膜層純度高，細(xì)密；

5、堆積速率低，設(shè)備也較復(fù)雜；

如您還想了解真空鍍膜還包含哪些鍍膜方式，歡迎回復(fù)留言！


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