真空蒸發(fā)涂層常用的工藝技術(shù)有哪些

時(shí)間：2022-03-11作者：深圳森豐真空鍍膜有限公司瀏覽：173

       真空蒸發(fā)涂層常用的工藝技術(shù)有哪些

       真空蒸發(fā)涂層不**真空10-2Pa在環(huán)境中，通過(guò)電阻加熱或電子束和激光轟擊將蒸發(fā)材料加熱到一定溫度，使材料中的分子或原子的熱振動(dòng)能**過(guò)表面束縛能，使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基板上形成薄膜。

       電阻加熱是真空蒸發(fā)涂層中常用的方法。其優(yōu)點(diǎn)是加熱源結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱可以克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱采用聚焦電子束直接加熱轟擊材料，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是以大功率激光作為加熱源，但由于大功率激光源成本高，只能在少數(shù)研究實(shí)驗(yàn)室使用。

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