氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實(shí)現(xiàn)金剛石膜制備
微波等離子體化學(xué)氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前**上被用于金剛石膜制備的公認(rèn)方法. MPCVD 裝置將微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波經(jīng)波導(dǎo)傳輸系統(tǒng)進(jìn)入反應(yīng)器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發(fā)下, 在反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生輝光放電, 使反應(yīng)氣體的分子離化, 產(chǎn)生等離子體, 在基板臺(tái)上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某客戶(hù)投資數(shù)億元采購(gòu) MPCVD 長(zhǎng)晶設(shè)備用于人造金剛石的生產(chǎn), 預(yù)計(jì)年產(chǎn)量萬(wàn)片.
MPCVD 需要檢漏: 在使用 MPCVD 設(shè)備進(jìn)行金剛石合成的過(guò)程中, 如果設(shè)備有泄漏的情況, 將會(huì)使合成的金剛石中摻有雜質(zhì), 影響金剛石的品質(zhì), 一般漏率要求 1E-9 mbar l/s. 需要快速的對(duì)設(shè)備進(jìn)行定量的泄露檢測(cè), 傳統(tǒng)檢漏方式無(wú)法滿(mǎn)足.
上海伯東 MPCVD 設(shè)備檢漏客戶(hù)案例: 為了解決這一問(wèn)題, 上海伯東推薦客戶(hù)采購(gòu)氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 利用真空法對(duì) MPCVD 進(jìn)行檢漏, 漏率設(shè)置 1E-9 mbar l/s.
1. 將設(shè)備通過(guò)波紋軟管連接檢漏儀 ASM 340, 確認(rèn)連接完畢
2. 啟動(dòng) ASM 340, 進(jìn)入待機(jī)界面; 初次啟動(dòng)時(shí)間大約 3min, 以后啟動(dòng) < 1min
3. 按下開(kāi)始鍵, 先通過(guò) bypass 閥門(mén)啟動(dòng)干式真空泵 ACP 28 抽真空, 到達(dá)一定壓力檢漏儀 ASM 340 開(kāi)始工作, 同時(shí)在設(shè)備懷疑有漏的地方噴氦氣 (腔體, 焊縫, 連接處); 若有漏, 檢漏儀馬上報(bào)警, 顯示該噴射點(diǎn)有漏.
4. 檢測(cè)完畢, 按下檢漏儀待機(jī)鍵, 放氣, 關(guān)閉電源, 移除連接管路.
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 與傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏對(duì)比, 在提供無(wú)損檢漏的同時(shí)可以出小的漏率 5E-13 Pa m3/s, 利用氦氣作為示蹤氣體可定位, 定量漏點(diǎn).
型號(hào) | ASM 340 W | |
對(duì)氦氣的小檢測(cè)漏率 | 5E-13 Pa m3/s | |
檢測(cè)模式 | 真空模式和吸式 | |
檢測(cè)氣體 | 4He, 3He, H2 | |
啟動(dòng)時(shí)間 min | 3 | |
對(duì)氦氣的抽氣速度 l/s | 2.5 | |
進(jìn)氣口大壓力 hPa | 25 | |
前級(jí)泵抽速 m3/h | 油泵 15 | |
重量 kg | 56 |
結(jié)合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術(shù)優(yōu)勢(shì), 上海伯東德國(guó) Pfeiffer 推出全系列新型號(hào)氦質(zhì)譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺(tái)式檢漏儀滿(mǎn)足各種不同的應(yīng)用. 氦質(zhì)譜檢漏儀替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可定位, 定量漏點(diǎn). 氦質(zhì)譜檢漏儀滿(mǎn)足單機(jī)檢漏, 也可集成在檢漏系統(tǒng)或 PLC. 推薦氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)用 >>
鑒于客戶(hù)信息保密, 若您需要進(jìn)一步的了解 MPCVD 設(shè)備檢漏, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士
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詞條說(shuō)明
HVA 真空閥門(mén) 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)
國(guó)內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠(chǎng)家配置伯東美國(guó)?HVA?真空閥門(mén)?11000?系列,尺寸以?4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):?-?閥門(mén)主體?304&
HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)
某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門(mén)?11000, HVA?真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):&nb
Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺(tái)真空探針臺(tái)一般用于復(fù)雜, 高速精密器件進(jìn)行表面觀(guān)測(cè)以及各種性能測(cè)試的儀器, 通過(guò)測(cè)試可以產(chǎn)品的質(zhì)量和性并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本. 探針臺(tái)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè), 光電行業(yè), 集成電路以及封裝的測(cè)試為什么需要真空環(huán)境?1. 真空探針臺(tái)通過(guò)搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤(pán)及真空吸附探針座的使用, 通過(guò)空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由
氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開(kāi)關(guān)柜檢漏應(yīng)用于電力行業(yè)的中壓開(kāi)關(guān)柜, 廣泛使用在發(fā)電廠(chǎng), 變電站, 地區(qū)電網(wǎng)和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等. 中壓開(kāi)關(guān)柜是一種金屬封閉開(kāi)關(guān)設(shè)備, 它對(duì)中壓開(kāi)關(guān)以外的其他設(shè)備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設(shè)備, **電力使用上的安全, 中壓開(kāi)關(guān)柜內(nèi)部通過(guò)吸和開(kāi)關(guān)控制電路.開(kāi)關(guān)吸合器需要檢漏中壓開(kāi)關(guān)柜內(nèi)部通過(guò)吸和開(kāi)關(guān)控制電路, 吸合器內(nèi)部真空環(huán)境, 如果有漏,
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
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