風(fēng)淋室在光學(xué)薄膜潔凈室的使用

    風(fēng)淋室在光學(xué)薄膜潔凈室中是如何應(yīng)用的呢,相信大多數(shù)人都想了解一下,其實(shí)光學(xué)薄膜主要由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活?lèi)光學(xué)介質(zhì)材料

    光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?,F(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是 光學(xué)薄膜吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。

    這是因?yàn)樵谥苽鋾r(shí),薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射,膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

    光學(xué)薄膜按應(yīng)用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學(xué)保護(hù)膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率,常用來(lái)制造反光、折光和共振腔器件。光學(xué)增透膜沉積在光學(xué)元件表面,用以減少表面反射,增加光學(xué)系統(tǒng)透射,又稱(chēng)減反射膜。光學(xué)濾光膜用來(lái)進(jìn)行光譜或其他光性分割,其種類(lèi)多,結(jié)構(gòu)復(fù)雜。光學(xué)保護(hù)膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面,用以增加其強(qiáng)度或穩(wěn)定性,改進(jìn)光學(xué)性質(zhì)。較常見(jiàn)的是金屬鏡面的保護(hù)膜。

    風(fēng)淋室備在光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間使用的主要原因是光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間潔凈度要求高,光學(xué)薄膜不能有一點(diǎn)灰塵。進(jìn)入光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間,每個(gè)人必須換上工人工作時(shí)穿的衣服、帽子、鞋子與口罩。我們被包裹得嚴(yán)嚴(yán)實(shí)實(shí),只有一雙眼睛露在外面。要經(jīng)過(guò)了一道“風(fēng)淋室”去塵,每個(gè)人被風(fēng)淋室吹出潔凈風(fēng)渾身“沐浴”一遍。風(fēng)淋室是員工進(jìn)入潔凈室與非潔凈室*的凈化設(shè)備之一,它可以較大限度地減少員工進(jìn)出潔凈室所帶來(lái)的污染問(wèn)題,對(duì)待進(jìn)入光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間管理中起到一定的作用。在其它特定的潔凈車(chē)間內(nèi),還配置了多條百級(jí)**凈工作臺(tái)生產(chǎn)流水線使用。

     

    風(fēng)淋室在光學(xué)薄膜潔凈室中是如何應(yīng)用的呢,相信大多數(shù)人都想了解一下,其實(shí)光學(xué)薄膜主要由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活?lèi)光學(xué)介質(zhì)材料

    光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是 光學(xué)薄膜吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。

    這是因?yàn)樵谥苽鋾r(shí),薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射,膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

    光學(xué)薄膜按應(yīng)用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學(xué)保護(hù)膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率,常用來(lái)制造反光、折光和共振腔器件。光學(xué)增透膜沉積在光學(xué)元件表面,用以減少表面反射,增加光學(xué)系統(tǒng)透射,又稱(chēng)減反射膜。光學(xué)濾光膜用來(lái)進(jìn)行光譜或其他光性分割,其種類(lèi)多,結(jié)構(gòu)復(fù)雜。光學(xué)保護(hù)膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面,用以增加其強(qiáng)度或穩(wěn)定性,改進(jìn)光學(xué)性質(zhì)。較常見(jiàn)的是金屬鏡面的保護(hù)膜。

    風(fēng)淋室備在光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間使用的主要原因是光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間潔凈度要求高,光學(xué)薄膜不能有一點(diǎn)灰塵。進(jìn)入光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間,每個(gè)人必須換上工人工作時(shí)穿的衣服、帽子、鞋子與口罩。我們被包裹得嚴(yán)嚴(yán)實(shí)實(shí),只有一雙眼睛露在外面。要經(jīng)過(guò)了一道“風(fēng)淋室”去塵,每個(gè)人被風(fēng)淋室吹出潔凈風(fēng)渾身“沐浴”一遍。風(fēng)淋室是員工進(jìn)入潔凈室與非潔凈室*的凈化設(shè)備之一,它可以較大限度地減少員工進(jìn)出潔凈室所帶來(lái)的污染問(wèn)題,對(duì)待進(jìn)入光學(xué)薄膜生產(chǎn)車(chē)間管理中起到一定的作用。在其它特定的潔凈車(chē)間內(nèi),還配置了多條百級(jí)**凈工作臺(tái)生產(chǎn)流水線使用。

     

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  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 如何控制人體靜電(人體靜電防護(hù))?

    人體是較普遍存在的靜電危害源。對(duì)于靜電來(lái)說(shuō),人體是導(dǎo)體,所以可以對(duì)人體采取接地的措施。 1、使用防靜電地面/ 防靜電鞋/ 襪(靜電從腳導(dǎo)到大地) 通過(guò)腳穿防靜電性地面、地墊、地毯,人員穿上防靜電鞋襪,形成組合接地。 2、佩戴防靜電腕帶并接地(靜電從手導(dǎo)到大地) 通過(guò)手用以泄放人體的靜電。它由防靜電松緊帶、活動(dòng)按扣、彈簧軟線.保護(hù)電阻及插頭或夾頭組成。松緊帶的內(nèi)層用防靜電紗線編織,外層用普通紗線編

  • 防靜電鞋與腕帶的使用中要注意哪些問(wèn)題?

    使用腕帶操作時(shí)不允許斷開(kāi),否則會(huì)失去接地作用 。各種腕帶使用的主要問(wèn)題是開(kāi)路,有時(shí)是臨時(shí)性的,有時(shí)是長(zhǎng)時(shí)間斷開(kāi),使失去接地作用。有的人因此使用腕帶檢測(cè)器測(cè)量其通斷狀態(tài),有的用監(jiān)測(cè)儀器測(cè)量腕帶的開(kāi)路及電阻變大。腕帶扣得不緊造成人體皮膚與腕帶的接觸電阻變大 有些腕帶的電阻就是帶子本身的,當(dāng)帶觸及地時(shí)使其電阻大大減小,有可能因此造成對(duì)人體電擊的危險(xiǎn)。 有些自稱(chēng)是無(wú)線的腕帶,其效果遠(yuǎn)不如有線的好。 防靜電

  • 潔凈廠房的位置選擇及布置-一凈凈化設(shè)備

    一、 潔凈廠房位置的選擇和周?chē)h(huán)境的要求 1、潔凈廠房的位置選擇 1)潔凈廠房應(yīng)在大氣含塵濃度較低、自然環(huán)境較好的區(qū)域。 2)潔凈廠房應(yīng)遠(yuǎn)離鐵路,碼頭、飛機(jī)場(chǎng)、交通要道以及散發(fā)大量粉塵和有害氣體的工廠、貯倉(cāng)、堆場(chǎng)等有嚴(yán)重空氣污染,振動(dòng)或噪聲干擾的區(qū)域。 如不能遠(yuǎn)離嚴(yán)重空氣污染源時(shí),則應(yīng)位于其較大頻率風(fēng)向上風(fēng)側(cè)或全年較小頻率風(fēng)向下風(fēng)側(cè)。 3)潔凈廠房應(yīng)布置在廠區(qū)內(nèi)環(huán)境淸潔、人流或貨流不穿越或少穿越

  • 風(fēng)淋室在光學(xué)薄膜潔凈室的使用

    風(fēng)淋室在光學(xué)薄膜潔凈室中是如何應(yīng)用的呢,相信大多數(shù)人都想了解一下,其實(shí)光學(xué)薄膜主要由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活?lèi)光學(xué)介質(zhì)材料 光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?,F(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是 光學(xué)薄膜吸收介質(zhì);可以是

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