上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用

    真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫(yī)療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續(xù)光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐. 

     

    處理后產(chǎn)品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產(chǎn)效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優(yōu)點.也可供金屬材料釬焊,燒結之用.

     

    系引進消化國外90年初產(chǎn)品. 在無氧化和狀態(tài)下進行應力或再結晶退火,以加工硬化和恢復塑性. 加熱退火處理的方法很多, 但采用真空退火對鈦管材進行退火處理, 是稀有金屬加工領域一項較新的技術和工藝. 它以熱處理清潔/ 經(jīng)濟/ / 無氧化/ 變形小的特點越來越引起人們的重視,氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把真空腔中的氣體抽到10-9mbar的工藝要求標準. 

     

    HVA真空閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環(huán)節(jié), 用來改變氣流方向, 調(diào)節(jié)氣流量大小, 切斷或接通管路, 起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA 4寸, 6寸 真空閥門已廣泛應用于真空退火爐的抽氣管路中.

     


    上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國地區(qū)總代理商.

    上海伯東美國 HVA 真空閥門優(yōu)勢
    1.滿足高真空(1E10-9  mabr)和高真空(1E10-10 mbar)應用
    2.HVA 真空閥門口徑 DN 16 至 800 mm
    3.堅固, 長使用壽命, 可達 1,000,000 啟動次數(shù)
    4.清潔和高密封性保證 HVA 進口閥門與前級泵, 渦輪分子泵等聯(lián)用
    5.雙向密封,小漏率 < 2x10-9  mbar l/S
    6.可選擇驅(qū)動方式多,手, 氣,電動可選
    7.有效保護分子泵. 氣動和電動真空閥門均帶信號反饋裝置, 與分子泵和腔體連用時可以起到截斷一些特殊氣體, 保護分子泵的作用
    8.標準或定制法蘭滿足不同應用
    9.標準, 整機美國設計, 制造, 組裝, 進口
    10.美國 HVA 過 40年的閥門研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗, 與友廠對比, HVA 閘閥閥體和部件均是在真空爐中一體釬焊完成, 了虛漏的可能. 

     

    若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:


    上海伯東是德國 Pfeiffer 真空設備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口的代理商 .我們真誠期待與您的合作! 

     
    上海伯東: 羅女士


    伯東企業(yè)(上海)有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

  • 詞條

    詞條說明

  • HVA 真空閥門應用于E-Beam鍍膜機

    某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb

  • KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用

    上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸

  • 分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗

    Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結試驗, 主要應用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結的不良影響, 然后對

  • KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

    硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉換效率低和由 S-W 效應引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導率、較高載流子遷移的電學性質(zhì)及優(yōu)良的光學穩(wěn)定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應的尾氣處理裝置, 有利于降低設備成本, 且工藝參數(shù)控制, 因此經(jīng)過

聯(lián)系方式 聯(lián)系我時,請告知來自八方資源網(wǎng)!

公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司

聯(lián)系人: 葉南晶

電 話: 021-50463511

手 機: 13918837267

微 信: 13918837267

地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室

郵 編:

網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com

八方資源網(wǎng)提醒您:
1、本信息由八方資源網(wǎng)用戶發(fā)布,八方資源網(wǎng)不介入任何交易過程,請自行甄別其真實性及合法性;
2、跟進信息之前,請仔細核驗對方資質(zhì),所有預付定金或付款至個人賬戶的行為,均存在詐騙風險,請?zhí)岣呔瑁?
    聯(lián)系方式

公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司

聯(lián)系人: 葉南晶

手 機: 13918837267

電 話: 021-50463511

地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室

郵 編:

網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com

    相關企業(yè)
    商家產(chǎn)品系列
  • 產(chǎn)品推薦
  • 資訊推薦
關于八方 | 八方幣 | 招商合作 | 網(wǎng)站地圖 | 免費注冊 | 一元廣告 | 友情鏈接 | 聯(lián)系我們 | 八方業(yè)務| 匯款方式 | 商務洽談室 | 投訴舉報
粵ICP備10089450號-8 - 經(jīng)營許可證編號:粵B2-20130562 軟件企業(yè)認定:深R-2013-2017 軟件產(chǎn)品登記:深DGY-2013-3594
著作權登記:2013SR134025
Copyright ? 2004 - 2025 b2b168.com All Rights Reserved