美國 HVA 真空閥門選型


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  • KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜

    ? ?? ?紫外濾光片是一種光學元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現(xiàn)了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達99.9%的細

  • KRI 離子源用于離子束拋光機

    ?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光,?精度可達亞納米級,?被譽為拋光.?離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學元器件設(shè)備制造商,?主要產(chǎn)品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,?提供精密光學工藝制造研發(fā)服務,?是一家精密光學元器件解

  • HVA 真空插板閥(真空閥門)用于激光真空系統(tǒng)

    因產(chǎn)品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實際成交合同為準。美國HVA帶孔真空插板閥(真空閥門)真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)伯東公司代理美國HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統(tǒng)HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應用伯東企業(yè)(上海)有限公司, 為美國HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 并負責HVA Valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售

  • 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用

    上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3

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