因產(chǎn)品配置不同,價(jià)格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。
美國(guó)HVA帶孔真空插板閥(真空閥門(mén))真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)
伯東公司代理美國(guó)HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門(mén)廣泛用于激光真空系統(tǒng)
HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應(yīng)用
伯東企業(yè)(上海)有限公司, 為美國(guó)HVA 真空閥門(mén)在中國(guó)境內(nèi)的代理商, 并負(fù)責(zé)HVA Valve 真空閥門(mén)在中國(guó)地區(qū)的銷售及相關(guān)技術(shù)支持.
伯東公司代理美國(guó)HVA 系列真空閥門(mén)、真空閘閥、真空角閥被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜、激光、科研、工業(yè)等領(lǐng)域, 并與眾多**的設(shè)備制造商和知位有合作, 例如:AMAT, Lam Research, AKT, Sandia, NASA, Los Alamos等.
針對(duì)激光真空系統(tǒng)的特殊性, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén)現(xiàn)提供帶孔真空插板閥(Gate Valve), 其具體優(yōu)點(diǎn)如下:
1、 激光束可以HVA真空閥門(mén)的擋板, 從而無(wú)須在系統(tǒng)上另外開(kāi)孔, 降低制造成本;
2、 孔徑的大小和數(shù)量可以根據(jù)客戶的實(shí)際情況進(jìn)行測(cè)算和加工;
3、 可根據(jù)激光束的方位, 在真空閥板上同時(shí)開(kāi)立多個(gè)孔位, 例如: 等邊正方形, 或等邊三角形等;
4、 孔的材料為石英玻璃, 具有高通過(guò)性, 無(wú)發(fā)散或反射干擾;
5、 整體真空插板閥Gate Valve 的性能及密封性與標(biāo)準(zhǔn)真空閥門(mén)一致.
目前,上海伯東公司已經(jīng)成功的在大學(xué), 中科院系統(tǒng)等單位推廣此類帶孔真空插板閥, 客戶的使用效果及反映非常良好. 主要規(guī)格有(也可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制):
1) DN 160 ISO-F, 中心開(kāi)孔10mm
2) DN 160 ISO-F, 中心開(kāi)孔90mm
3) DN 160 ISO-F, 中心開(kāi)孔10mm, 并四邊等距60mm, 孔徑10mm
請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東鄧女士,分機(jī)134
詞條
詞條說(shuō)明
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)
氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺(tái), 實(shí)現(xiàn)多工位同時(shí)抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個(gè)組件, 均需要進(jìn)行密封性泄露測(cè)試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過(guò)上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國(guó) Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無(wú)油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?
上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性
HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)
因產(chǎn)品配置不同,價(jià)格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣
??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學(xué)鍍膜技術(shù)在光學(xué)基片上交替鍍上高低折射率的光學(xué)膜,?實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光區(qū)(400nm-630nm)高透,?近紅外(700nm-1100nm)截止的光學(xué)濾光片,?主要應(yīng)用于可拍照手機(jī)攝像頭、電腦內(nèi)置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數(shù)碼成像領(lǐng)域,?用于紅外光線對(duì)?CCD/CM
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