Sensor基本常識(shí)簡(jiǎn)介

    一、Sensor基本常識(shí)簡(jiǎn)介

    Sensor:是電容屏的電信號(hào)功能層,其可以是單層材料構(gòu)成,也可以是多層材料形成復(fù)合結(jié)構(gòu),俗稱"功能片"種類及其特點(diǎn):Film做ITO載體的Sensor :厚度優(yōu)勢(shì),未來Film電容屏將越來越薄Glass做ITO載體的Sensor:可全I(xiàn)TO工藝,OGS結(jié)構(gòu)等

    (1)Film做ITO載體的工藝:

    單層:一層ITO層,無屏蔽層,主要用于中小尺寸Film,成本低;

    雙層:兩層ITO層,無屏蔽層,大尺寸都傾向于Film,成本低;

    三層:兩層ITO層,一層屏蔽層,工藝步驟多且良率不好控制,F(xiàn)ilm只能承載單層ITO。

    (2)Glass做ITO載體的工藝:

    單層搭橋:只需要一片玻璃,一面搭橋做ITO層一面做屏蔽層,主要用于小尺寸的屏,工藝少、成本低、良率好控制;

    雙層:一塊玻璃的兩面都鋪有ITO,由于自電容抗干擾能力弱必須再加一層屏蔽層,導(dǎo)致成本增加但實(shí)現(xiàn)工藝比單層容易,通常把一層ITO做到LENS上面,另一塊玻璃做ITO層和屏蔽層。

    二、Glass Sensor與Film Sensor的比較

    ITO

    ITO 是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜,通常有兩個(gè)性能指標(biāo):電阻率和透光率。在氧化物導(dǎo)電膜中,以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過率較高和導(dǎo)電性能較好,而且容易在酸液中蝕刻出細(xì)微的圖形.其中透光率達(dá)90%以上,ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與Sn2O3之比例來控制,通常Sn2O3:In2O3=1:9,多用于觸控面板、觸摸屏、冷光片等。

    ITO 是所有電阻技術(shù)觸屏及電容技術(shù)觸摸屏都用到的主要材料,實(shí)際上電阻和電容技術(shù)觸摸屏的工作面就是ITO 涂層。

    OCA

    OCA是將光學(xué)亞克力膠做成無基材,然后在上下底層各貼合一層離型薄膜,是一種無基體材料的雙面貼合膠帶。

    特性:高透光率、霧度低、耐紫外線、高粘著力、耐高溫、長(zhǎng)時(shí)間不使用不發(fā)黃。

    三、電容屏ITO制程工藝簡(jiǎn)介

    絲印工藝(即化學(xué)蝕刻法):

    在絕大多數(shù)的場(chǎng)合中,化學(xué)蝕刻法是ITO 圖形制備較成熟和可行的技術(shù),它可以根據(jù)你的需要,生成目前足夠精細(xì)的圖案和相對(duì)比較少的前期投資。隨著深紫外線技術(shù)在曝光設(shè)備上的應(yīng)用,微米的精度,早已被大多數(shù)廠家所實(shí)現(xiàn)。它具有高效率、批次穩(wěn)定性和重復(fù)性好、設(shè)備投資額低、配套技術(shù)完善等諸多優(yōu)點(diǎn),目前仍是大規(guī)模生產(chǎn)的主要方向,使用的原料有蝕刻膏、耐酸油墨、光刻膠。

    蝕刻膏制程(簡(jiǎn)稱干蝕刻):是直接在產(chǎn)品電極圖形區(qū)域外印制蝕刻膏,等反應(yīng)完全后,用蝕刻膏溶劑,一般是水清洗干凈,留下所需的電極圖形。因?yàn)椴挥煤馁M(fèi)大量的化學(xué)物品,對(duì)環(huán)境污染影響較小,節(jié)省大量水、電費(fèi)、場(chǎng)地費(fèi)用,前期投資費(fèi)用低廉,一般的中小型企業(yè)都可以掌握大部分技術(shù)。該工藝的線寬線距一般要求在0.2mm以上,對(duì)絲印網(wǎng)版感光膠要求高。

    控制要點(diǎn):溫度、蝕刻速度、邊緣效應(yīng)

    耐酸油墨制程(簡(jiǎn)稱濕蝕刻):分為UV 型和熱固型。它是在產(chǎn)品電極圖形區(qū)域內(nèi)印制阻蝕油墨保護(hù)起來,然后把產(chǎn)品浸入化學(xué)蝕刻液中,讓產(chǎn)品電極圖形區(qū)域外部分與化學(xué)蝕刻液完全反應(yīng)后,再把阻蝕油墨從產(chǎn)品電極圖形表面剝離下來,形成產(chǎn)品電極圖形。它的線寬和線距做到0.08mm,仍可以達(dá)到95%以上的蝕刻良率

    阻蝕油墨的控制要點(diǎn):針孔度、粘度

    保護(hù)膠制程:熱固型,過酸不過減蝕刻良率較高,成本較高

    激光工藝:

    ITO 具有反射紅外線,吸收紫外線能量的特性。人們利用這兩個(gè)特性制作了1055nm 和355nm 的激光器,進(jìn)行ITO 膜圖形制備加工。紅外線激光加工是使 ITO 層在高溫下汽化揮發(fā),把ITO 去除掉。紫外線激光加工讓ITO 層里的原子吸收紫外線能量后自己激化成離子,從ITO 層表面不斷逃逸,把ITO 去除掉。

    激光蝕刻法制作 ITO 層有比較嚴(yán)格的線距限制,在圖形制備工藝中有相當(dāng)大的局限性,對(duì)那些圖形簡(jiǎn)單的產(chǎn)品如觸摸屏、硅片光伏電池、薄膜開關(guān)等比較實(shí)用。當(dāng)然,在其它使用ITO 膜的產(chǎn)品中,也經(jīng)常用來做為ITO 線路短、斷路修補(bǔ)使用。

    在激光加工方式中,大尺寸的ITO 膜一般采用矢量圖形激光切割I(lǐng)TO 層的方式加工,小尺寸的除了采用矢量切割方式外,也有人使用振鏡式圖形點(diǎn)陣激光掃描雕刻方式進(jìn)行快速加工。

    激光加工是一種非接觸性加工,對(duì)產(chǎn)品表面處理要求不高,產(chǎn)品表面較容易得到保護(hù),產(chǎn)品品質(zhì)較能得到保證。由于不用使用化學(xué)原料和消耗水資源,較符合環(huán)境保護(hù)要求,在包含電子信息業(yè)的各個(gè)產(chǎn)業(yè)中,得到迅速的發(fā)展和應(yīng)用,慢慢在往主流加工方式靠攏。

    黃光工藝:

    單面ITO:在玻璃基板的同一面上完成X軸和Y軸導(dǎo)線的光刻,X和Y中間鍍SiO2等做絕緣。

    雙面ITO:在玻璃基板的金屬面和非金屬面上分別完成X軸和Y軸導(dǎo)線的光刻。具體流程如下圖

    黃光工藝: 較**的特點(diǎn)就是走線間距、線寬很小,可以在有限的空間里實(shí)現(xiàn)較復(fù)雜的排線克服大尺寸中排線復(fù)雜問題,也能滿足目前市場(chǎng)上追求的**窄邊框的需求;它的電極間距也較小,這顯著提高了觸摸屏觸控時(shí)的識(shí)別率和感應(yīng)性能,精細(xì)化的蝕刻技術(shù)也能顯著減少觸摸屏的耗電量。該工藝一致性好,良率高,對(duì)于比較窄邊框的方案以及一些相對(duì)**的案子一般都是使用該制程,該走線一般走0.03-0.05mm甚至較細(xì)。但是價(jià)格會(huì)高些,以及對(duì)設(shè)備要求也高。

    光罩(Mask)又稱鉻版、掩膜版、掩光版、光刻版等,一般為玻璃基材以鉻、氧化鉻為掩膜的硬掩膜版,為了防止其變形,需要豎直存放,為了保證掩膜版表面的潔凈度,一般要保存在1,000級(jí)以上的無塵室內(nèi),濕度要維持在40-60%RH左右的干燥環(huán)境里,以防止玻璃出現(xiàn)發(fā)霉現(xiàn)象影響光學(xué)性能。濕度太高濕會(huì)發(fā)霉,濕度太干燥會(huì)有靜電,容易使光罩吸附異物,異物容易造成刮傷影響圖案的完整性。

    四、電容屏Sensor常見不良簡(jiǎn)介

    ITO短路

    不良原因:

    POSI制作過程中,涂POSI前玻璃基板上有纖維,顯影后纖維類異物掉到玻璃上或MASK被污染造成蝕刻后ITO走線短路

    ITO針孔

    不良原因:

    1、光刻掩模版質(zhì)量不好,本身有針孔;

    2、涂光刻膠時(shí),操作環(huán)境被灰塵沾污;

    3、光刻膠涂得太薄,或光刻膠本身抗蝕性能太差;

    4、曝光時(shí)間控制不好;蝕刻液配比不當(dāng);

    5、玻璃表面本身缺陷也可能造成針孔。

    ITO劃傷

    不良原因:

    清洗或制作過程中,玻璃表面受到污染,造成蝕刻后ITO走線斷線或缺口

    控制點(diǎn):

    Film Sensor 重點(diǎn)不良及其管控措施

    1:銀漿斷線搭線問題,這個(gè)問題一直困擾眾多TP企業(yè),如何解決此問題已成為F/F結(jié)構(gòu)電容屏的重點(diǎn),但是,實(shí)際真正做得好的沒有幾家,因?yàn)榫蛿嗑€而言,需要控制的因素太多,如車間潔凈度,銀漿粘度,設(shè)備對(duì)于參數(shù)的可控性,工藝參數(shù)的制定及網(wǎng)版的目數(shù),絲徑,張力等等,只要其中一項(xiàng)沒做到位就會(huì)影響銀漿印刷的效果。

    2:功能問題,功能問題主要分為三種:**,由于ITO刻斷引起的局部或整條通道的點(diǎn)觸失效;*二,由于銀漿斷線搭線造成的功能不良;*三由于蝕刻膏或耐酸滲透和圖案變形或是制程中造成ITO方阻變化過大引起的容值偏差,即容值的均勻性偏差,從而造成功能不良。要解決這三個(gè)問題,說起來很簡(jiǎn)單,實(shí)際運(yùn)作中任重而道遠(yuǎn),一則需要對(duì)蝕刻膏或是耐酸有一個(gè)有效的監(jiān)控方式,二則需要銀漿印刷時(shí)控制斷線和毛刺,三則需要在制程中監(jiān)控ITO方阻的變化,監(jiān)測(cè)ITO的端電阻。

    3:外觀問題,這個(gè)問題和電阻屏一樣,都要在車間環(huán)境和制程中控制,需要監(jiān)控好每個(gè)細(xì)節(jié)。


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  • 詞條

    詞條說明

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