新沂DLZ設(shè)備誰(shuí)家好品牌企業(yè)「多圖」

時(shí)間：2020-03-07作者：沈陽(yáng)百樂(lè)真空技術(shù)有限公司瀏覽：66

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請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍（水電鍍）相比有何優(yōu)點(diǎn)？

PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。 ? ? 兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力較大，膜層的硬度較高，耐磨性和耐腐蝕性較好，膜層的性能也較穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)較為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多較漂亮；有些產(chǎn)品在鍍膜的時(shí)候如果暴露在空氣中，會(huì)與空氣中的氣體和塵埃發(fā)生反應(yīng)，但使用真空鍍膜就能避免這些問(wèn)題。PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。




鋁型材鍍鈦金工藝，包括選材、拋光、化學(xué)除油、清水沖洗、活化、真空鍍鈦工藝步驟，其特征在于它還包括：

預(yù)鍍工藝，該工藝是將活化后并經(jīng)清水沖洗的鈦金鋁型材置于由鹽、鹽酸和水組成的液體中進(jìn)行化學(xué)處理，處理溫度為常溫，處理時(shí)間至液體發(fā)生激烈化學(xué)反應(yīng)為止;




電鍍工藝，該工藝中鍍液成份包括硫酸鎳、氯化鎳、硼酸、十二烷基硫酸鈉、糖精、光亮劑，工藝條件：電流3-4A /dm2陰極移動(dòng)、5-7A/dm2空氣攪拌，鍍液溫度50-60℃，PH 值3.9-4.2，電鍍時(shí)間15分鐘。







真空鍍膜機(jī)濺鍍的原理是什么




濺鍍，一般指的是磁控濺鍍，歸于高速低溫濺鍍法.

該技能請(qǐng)求真空度在1×10-3Torr擺布，即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體，并在塑膠基材(陽(yáng)極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，因?yàn)檩x光放電發(fā)生的電子激起慵懶氣體，發(fā)生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子轟出，堆積在塑膠基材上.以幾十電子伏特或較高動(dòng)能的荷電粒子炮擊資料外表，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱(chēng)為濺射產(chǎn)額產(chǎn)額越高濺射速度越快。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生，在10-1—10 Pa真空度，在兩較間加高壓發(fā)生放電，正離子會(huì)炮擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。在選擇的時(shí)候需要了解待抽氣體的成分，如果需要選擇性的抽氣，一種泵可能不足以滿(mǎn)足要求，必須組合多種不同的泵互相配合工作，如果真空鍍膜設(shè)備鍍膜要求無(wú)油則要選用無(wú)油泵。







沈陽(yáng)百樂(lè)真空技術(shù)有限公司專(zhuān)注于真空泵,鍍膜設(shè)備等

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  詞條說(shuō)明

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  近十多年，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是較快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代**的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。 Q3: 請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜的具體原理是什么？ A3: 離子鍍膜（PVD鍍膜）技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉

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  真空鍍膜對(duì)面涂層的要求：與鍍膜層要有良好的接觸性能; 與底涂層要有一定的相溶性;成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好?？估匣阅軓?qiáng)。 由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。 常用涂料: 真空鍍常用涂料有紫外光固化涂料、丙烯酰酯涂料、醇酸樹(shù)脂涂料、環(huán)氧樹(shù)脂涂料、聚氨酯涂料等。 濺鍍機(jī)設(shè)備與技能(磁控濺鍍) 濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射

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