簡(jiǎn)單分析溶液中溶質(zhì)的離子狀態(tài)

時(shí)間：2020-01-05作者：河南冬青礦山機(jī)器公司瀏覽：389

簡(jiǎn)單分析溶液中溶質(zhì)的離子狀態(tài)

        據(jù)了解，溶液中的溶質(zhì)以離子狀態(tài)存在，溶質(zhì)離子在礦物表面的吸附稱離予吸附。例如，捕收劑離子，電解質(zhì)離子在礦物表面的吸附。離子吸附又有定位吸附和交換吸附兩種。取緊貼簡(jiǎn)體襯板內(nèi)壁的較外層研磨體作為研究對(duì)象研磨體在隨簡(jiǎn)體作圓弧軌跡向上運(yùn)動(dòng)的過(guò)程中，當(dāng)達(dá)到某位置時(shí)，其離心力P小于或等于它本身重力的徑向分力，研磨體就離開圓孤軌跡，開始拋射出去，按拋物線運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行選擇。
   
         定位吸附。定位吸附具有強(qiáng)烈的選擇性，只有定位離子才能發(fā)生該類吸附，吸附到礦物表面后，沒有離予被取代下來(lái)。例如，重晶石對(duì)Ba，so離子的吸附；硅酸鹽礦物對(duì)H+、OH'離子的吸附都屬于定位吸附。所以可以選用陶粒窯進(jìn)行分析。由此可見，降落點(diǎn)正是這兩個(gè)軌跡，即拋物線和圓弧的交點(diǎn)。為求得降落點(diǎn)坐標(biāo)，**列出拋物線及圓的軌跡方程式，聯(lián)立求解這兩式，所得結(jié)果即為降落點(diǎn)的軌跡。

        研磨體脫離點(diǎn)a拋出后，沿拋物線軌跡下落，其降落點(diǎn)位置仍在原來(lái)上升時(shí)研磨體層的圓弧軌跡上。交換吸附。溶液中某一種離子交換礦物表面的另一種離子而吸附到礦物的表面上，該類型的吸附稱交換吸附。參與交換的離子可以是陽(yáng)離子，也可以是陰離子，交換吸附可以在雙電層的內(nèi)層或外層進(jìn)行。
  


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