波達超聲波清洗技術(shù)的創(chuàng)新進展

        然斯康波達近年來在超聲波清洗技術(shù)上做了大量研究工作,也投入了大量資金、人力和物力,并**了相應(yīng)的成果?,F(xiàn)在對環(huán)保的要求越來越嚴,根據(jù)蒙特利爾協(xié)議書,必須全面禁止使用各種ODS清洗劑,因此目前各種ODS清洗劑替代品相繼在研發(fā)和試驗中,為此超聲波水基清洗、超聲波半水基清洗和超聲波碳氫化合物溶劑清洗以及相應(yīng)的工藝、相關(guān)的設(shè)備研發(fā)也在同步進行。目前要全面徹底替代ODS清洗劑還有一個相當?shù)倪^程,但相信在超聲界和化學(xué)溶劑界的不斷努力下,一個既具有清洗性又具有環(huán)保性和經(jīng)濟性的非ODS超聲清洗技術(shù)將會獲得廣泛的應(yīng)用。
        波達超聲波清洗機清洗技術(shù)經(jīng)過幾十年來的理論探討和應(yīng)用研究,無論設(shè)備還是工藝上均**了較大的發(fā)展,有關(guān)單位相繼研發(fā)了一批新的產(chǎn)品,也制定出了一些**典型的清洗工藝:
        1.高頻超聲清洗:對于象硅片表面小至零點幾微米的**微污物粒子,常規(guī)的超聲波清洗器無能為力,即使增加功率密度也無濟于事。近年來發(fā)展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術(shù),由于頻率高,空化效應(yīng)已不起作用,因此清洗的關(guān)鍵不是氣泡,是高頻壓力波的擦洗作用,其對污物的去除率接近**。高頻清洗進來發(fā)展較快,主要用于**大規(guī)模集成電路芯片上的污物清洗,以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。
        2.聚焦式清洗:對于象紡織行業(yè)的噴絲板、過濾器之類微孔物件的清洗,常規(guī)的超聲波清洗機清洗效果十分不理想,聲強達不到要求,而采用機械掃描聚焦式超聲清洗,噴絲板微孔中的污物脫離十分明顯。聚焦式清洗要求達到高的聲強,目前選用的頻率以低頻為主,常用20kHz和15kHz兩種頻率,個別的頻率也有28kHz的,其電功率在連續(xù)波情況下一般為500~700W,間隙脈沖工作狀態(tài)下,功率可高一些。
        3.多頻清洗:即在一只清洗缸中,安裝有兩種或三種以上不同頻率的換能器,由多只發(fā)生器分別推動各自頻率的換能器。我們知道,清洗工作頻率高時,在液體中空化強度低而空化密度大,而工作頻率低時則相反。低頻超聲波的強度高,對物體表面清洗有利;高頻超聲波空化密度高,沖擊波能穿達凹槽、細縫、深孔等細微結(jié)構(gòu)。同時缸中有多種頻率的超聲波,也克服了單頻清洗駐波場造成的清洗不均勻問題。
        4.掃頻和跳頻的清洗:掃頻和跳頻清洗都是為了改善缸中的聲場結(jié)構(gòu),前者解決了缸中的不均勻駐波場,使清洗均勻。而跳頻和多頻一樣兼顧到高低頻清洗,不同的是跳頻用的是一只換能器和一只發(fā)生器,其換能器本身有兩個諧振頻率,在**諧振點帶寬內(nèi)作連續(xù)的頻率變化,然后跳到另一帶寬內(nèi)進行掃頻清洗。它是高低頻交替進行清洗。
        5.超聲清洗工藝研究:為了提高物件的清洗質(zhì)量,應(yīng)根據(jù)被超聲波清洗機清洗物的性質(zhì)和污物的類型,選擇合適的清洗工藝及對環(huán)境無污染的非ODS的清洗劑,以及相應(yīng)的配套設(shè)備。

    文章來源于:深圳超聲波清洗機廠家;波達超聲:www.

     


    然斯康波達機電設(shè)備(深圳)有限公司專注于超聲波清洗機 ,碳氫清洗干燥設(shè)備等

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    詞條說明

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