在工業(yè)產(chǎn)品的制造中,清洗劑廣泛運用于各種工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)工藝制程。電子行業(yè)從半導體芯片、器件、電子組件乃至產(chǎn)品整機,在許多制成環(huán)節(jié)。都會運用到清洗劑,完成各種各樣的不同的清潔和清洗功能要求,去除各類污染物和污垢。
在某些工藝制程中,清洗劑起到了關鍵材料和關鍵技術的作用,比如說我們常說的半導體晶圓光刻膠,光刻膠的去除清洗劑與光刻膠同等重要。隨著電子產(chǎn)品和電子制成的升級提高,清洗劑從較初的以三氯乙烯、三氯乙烷氟氯烴類清洗劑為代表的溶劑型清洗劑,到升級為碳氫類清洗劑,直到今天進一步提升成為半水基和水基清洗劑,不僅對清洗物兼容性以及對污垢去除率的性能提升,同時較全面地改善作業(yè)場所對作業(yè)人員身心健康以及大氣環(huán)境的影響,大幅減少大氣以及臭氧層破壞的可能。
隨著各國、各地區(qū),各種安全環(huán)境物質(zhì)規(guī)范和管控要求的提升,對清洗機的要求也越來越高,不僅要求是安全的而且是環(huán)保的。特別今年標準GB38508的頒布,許多電子產(chǎn)品生產(chǎn)制造商都在重點關注VOCs與清洗劑的關系。標準GB38508的正式頒布執(zhí)行,意味著清洗劑中VOC的管控有了法律規(guī)范依據(jù),強制清洗劑生產(chǎn)制造商在產(chǎn)品技術上面升級滿足標準要求,同時也要求清洗劑的使用單位滿足標準要求。
電子行業(yè)所使用的各類物質(zhì)材料當然也包含清洗劑,相應的安全環(huán)保物質(zhì)規(guī)范當屬索尼SONY-00259技術標準較為全面和規(guī)范,在行業(yè)中許多廠商較為廣泛的認可和認同,并將索尼SONY-00259技術標準經(jīng)過修正、修改而成為廠商的安全環(huán)保物質(zhì)管理規(guī)范。其次,歐盟的REACH物質(zhì)管理規(guī)范要求。以上安全環(huán)保物質(zhì)規(guī)范要求和技術標準,將電子行業(yè)中所使用的各種物質(zhì)材料進行了安全環(huán)保方面的界定和劃分,當然也包含了清洗劑所使用的物質(zhì)材料。
清洗劑或界定清洗劑是否安全環(huán)保,不僅僅以VOC的含量以及VOC的物質(zhì)來進行清洗劑的環(huán)保安全屬性確定,安全環(huán)保的清洗劑應滿足索尼SONY-00259技術標準和REACH物資管理規(guī)范要求,才可稱為安全環(huán)保的清洗劑。
依據(jù)GB38508國家標準,以單位容積內(nèi)VOC含量的克數(shù),劃分為水基清洗劑、半水基清洗劑和溶劑型清洗劑。同時,界定了有多類物資屬于禁止使用,這些物質(zhì)不僅屬于VOCs,同時,也會造成大氣臭氧層的破壞和對人體健康的傷害。
單位升體積清洗劑,VOC含量為50克以下的定義為水基清洗劑; 50克以上300克以下定義為半水基清洗劑; 300克以上900克以下定義為溶劑型清洗劑。標準只是依據(jù)VOC的含量定義了清洗劑的種類,并未對任何一種清洗劑列名為禁止和限制使用,用戶可依各自的產(chǎn)品生產(chǎn)需要選用不同類型的清洗劑,并在作業(yè)場所采取相應的安全環(huán)保措施,滿足國家相應的規(guī)范和法規(guī)要求,以**作業(yè)環(huán)境和人身安全,即可吻合標準的要求。
IPC標準作為電子行業(yè)零組件及產(chǎn)品**可以選擇參照標準,在IPC-CH65B《清洗指導》標準中明確定義,清洗劑其中的水含量**過50%,即定義為水基清洗劑;以溶劑型清洗劑清洗,以水漂洗的作業(yè)方式,該類清洗劑定義為半水基清洗劑。水基清洗劑的作業(yè)方式,使得清洗的全流程實現(xiàn)了安全環(huán)保的工藝作業(yè)方式,所有物質(zhì)材料都可以可控的方式進行作業(yè)。其中包括清洗制程中所產(chǎn)生的氣霧、環(huán)境影響和清洗劑壽命終點的廢液處理,盡管在清洗劑未使用前清洗劑的物質(zhì)材料是滿足安全環(huán)保要求的,經(jīng)清洗污垢以后,清洗劑的廢液中含污垢物質(zhì),往往都不能達到安全環(huán)保和自然降解的要求,所以清洗劑的廢液必須交由具備有危險化學品處理資質(zhì)的第三方機構(gòu)進行廢液處理。如漂洗水滿足國家**規(guī)定的工業(yè)排放水規(guī)范要求,即可直排。如不能滿足此規(guī)范要求,必須進行漂洗水的水處理,才可排放。從標準可看出,水基清洗劑是電子工藝制程清洗必然的方向,必經(jīng)之路和清洗工藝應用的較終選擇。
水基清洗劑與溶劑型清洗劑相比,具有較為可靠安全的理化技術特征,從清洗原理分析可得出比溶劑清洗劑能獲得技術指標較高的干凈度,并且對VOC有較好的可控性,可實現(xiàn)較為清潔的作業(yè)環(huán)境,與人和大氣環(huán)境較友善的親和力。以目前水基清洗劑在電子制程的應用技術,從半導體的封測至組件制成全產(chǎn)品鏈的工藝制程清洗,都可以實現(xiàn)水基清洗作業(yè)方式,絕大部分應用場景,相比溶劑型清洗劑,較為高效、安全、低成本。
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新標準GB38508之VOCs與清洗劑的未來發(fā)展之路,合明科技
在工業(yè)產(chǎn)品的制造中,清洗劑廣泛運用于各種工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)工藝制程。電子行業(yè)從半導體芯片、器件、電子組件乃至產(chǎn)品整機,在許多制成環(huán)節(jié)。都會運用到清洗劑,完成各種各樣的不同的清潔和清洗功能要求,去除各類污染物和污垢。在某些工藝制程中,清洗劑起到了關鍵材料和關鍵技術的作用,比如說我們常說的半導體晶圓光刻膠,光刻膠的去除清洗劑與光刻膠同等重要。隨著電子產(chǎn)品和電子制成的升級提高,清洗劑從較初的以三氯乙烯、三氯乙
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