不同的CMP拋光液對藍寶石研磨效果不應相同,而且研磨液對藍寶石晶體研磨效率的提升和表面質(zhì)量的改善具有一定的良好反應。
藍寶石晶體因其優(yōu)越的物理、光學性能,在LED襯底材料和固態(tài)激光發(fā)光介質(zhì)中運用非常廣泛,并且將運用到手機面板上。藍寶石的廣泛運用對它的光滑無損傷的表面研磨拋光技術(shù)提出了較高的要求,但藍寶石因其物理、化學性能比較穩(wěn)定,在加工上比較艱難。
在目前的工業(yè)上,對于藍寶石的加工需要采用切片、研磨、拋光等等工序才能加工完成,其中研磨加工的作用是重中之重,因為研磨是工件獲得良好平面度、保證拋光質(zhì)量和效率的關(guān)鍵。單晶藍寶石的研磨一般利用逐減小藍寶石A向研磨液中一種磨料的立徑,來控制研磨的進給量,來獲得較好的表面粗糙度。由于研磨過程中,硬度較大的磨料在工件和研磨盤之間滾軋,容易造成較大的表面損傷層,增加了拋光時間;另外藍寶石C向研磨液中磨料利用率低、耗費大、還污染環(huán)境。在當前,固結(jié)磨料由于可依靠凸起的磨料實現(xiàn)材料的微量切除而成為了效率低損傷加工的有效手段。
在固結(jié)磨料加工中,藍寶石LED襯底拋光液的化學作用也不容忽視。在利用固結(jié)磨料拋光硅襯底中,比較了不同藍寶石LED襯底拋光液對材料去除率和表面質(zhì)量的影響,發(fā)現(xiàn)拋光液組分和pH值得改變對拋光效果具有較大影響,從而可以推斷拋光液與工件表面具有一定的化學作用。
化學機械拋光液中存在一種化學物質(zhì)可以軟化水晶玻璃的表面表層,從而有利于材料的拋光速率的提高。但 由于藍寶石的高化學穩(wěn)定性,在詳細的報告中并沒有藍寶石晶片研磨過程中研磨液起到的化學作用。
不同吉致拋光液對單晶藍寶石的研磨拋光效果是不一樣的,其中起到的微妙化學作用在無形中影響著藍寶石晶片的拋光效率和表面損傷度。
無錫吉致電子科技有限公司25年專注于生產(chǎn)氧化鋁拋光液、氧化硅拋光液、金剛石研磨液、氧化鈰拋光液、碳化硅拋光液、不銹鋼拋光液、鋁合金拋光液、鈦合金拋光液、藍寶石拋光液、鉬拋光液、鎢鋼拋光液、銅拋光液等。
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詞條說明
不同的CMP拋光液對藍寶石研磨效果不應相同,而且研磨液對藍寶石晶體研磨效率的提升和表面質(zhì)量的改善具有一定的良好反應。藍寶石晶體因其優(yōu)越的物理、光學性能,在LED襯底材料和固態(tài)激光發(fā)光介質(zhì)中運用非常廣泛,并且將運用到手機面板上。藍寶石的廣泛運用對它的光滑無損傷的表面研磨拋光技術(shù)提出了較高的要求,但藍寶石因其物理、化學性能比較穩(wěn)定,在加工上比較艱難。?在目前的工業(yè)上,對于藍寶石的加工需要采用
目前,藍寶石基片是LED工業(yè)的可以選擇襯底,藍寶石表面的質(zhì)量對LED器件的質(zhì)量和性能有著非常重要的影響。因此,在生產(chǎn)藍寶石基片時,對后一道工序拋光加工工序有很高的要求,要求藍寶石基片的表面光滑、無缺陷,這也是藍寶石襯底重要的制程。但是,由于藍寶石晶體材料硬度高,脆性大,屬于典型的難加工材料之一。因此,如何讓拋光加工滿足日益增長的嚴格要求長期以來備受關(guān)注。如今的化學機械拋光是一可實現(xiàn)全局平坦化的拋光方法
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