等離子體刻蝕機(jī)是利用高頻輝光放電反應(yīng),將反應(yīng)氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴(kuò)散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),形成揮發(fā)性反應(yīng)物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備,是在密閉器皿內(nèi)用進(jìn)口真空泵達(dá)到相應(yīng)的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運(yùn)動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離子活性很高,能量破壞了化學(xué)鍵的大部分化學(xué)鍵。
等離子體刻蝕機(jī)清洗技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)、航空航天技術(shù)、精密機(jī)械、醫(yī)療、塑料、印刷、、液晶顯示屏、電子電路、手機(jī)零部件等廣泛的行業(yè)中有著**的應(yīng)用。
等離子體刻蝕機(jī)清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用:
丙烯類塑料材料是無極性的,這些產(chǎn)品在印刷、粘合、涂布等未經(jīng)表面處理狀態(tài)下的效果非常差,甚至不能做。采用等離子蝕刻機(jī)技術(shù)對產(chǎn)品做表面處理,可增強(qiáng)表面粘合力和粘接強(qiáng)度。然而,等離子刻蝕機(jī)清洗工藝中,工藝氣體、氣體流量、功率、處理時(shí)間等因素都會影響清洗工藝,如果合理地選擇這些參數(shù),將有效地增強(qiáng)處理的效果。在金屬、陶瓷和玻璃等表面上,通常會有**物質(zhì)和氧化層,在做粘接、連接、焊接、銅焊和CVD前,都需要使用等離子刻蝕機(jī)處理才能獲得完全潔凈的無氧化層。
深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機(jī),全自動點(diǎn)膠機(jī),等離子清洗機(jī)等
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電漿清洗機(jī)比超聲波清洗機(jī)在處理微觀材料表層顯得較環(huán)保
電漿清洗機(jī)是1種嶄新的科技創(chuàng)新,使用等離子體高過日常潔凈方式難以高過的功效。等離子體是物質(zhì)的狀態(tài),也稱為物質(zhì)的*四狀態(tài)。在氣體中施加足夠的能量使其分離成等離子。等離子體的“活性”組分包含:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。電漿清洗機(jī)使用這種活性成份的類型處理試樣表層,高過清潔等作用。常壓電漿清洗機(jī)可選用多種型號的噴嘴,用于不同場合,以滿足各種不同的產(chǎn)品和處理環(huán)境;小型化的設(shè)備體
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料,它具有介電性能穩(wěn)定,介質(zhì)損耗小,耐潮性好,溫度系數(shù)好等優(yōu)點(diǎn),具有較其穩(wěn)定的化學(xué)性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來,常壓plasma等離子處理
在紡織和涂層領(lǐng)域_等離子表面活化機(jī)的使用情況有哪些呢?
等離子表面活化機(jī)廣泛應(yīng)用于紡織品后整理。按照整理的目的和要求,可以實(shí)現(xiàn)紡織品的多功能加工,大大提高產(chǎn)品的附加值。目前,它在紡織品中的應(yīng)用主要包括以下幾類。1)等離子表面活化機(jī)三防整理傳統(tǒng)式的紡織品三防整理,往往需要經(jīng)過軋制、烘焙、烘焙等工序,工藝流程長,需要耗費(fèi)大量能量;而且需要昂貴的整理劑等添加劑。因此,其加工成本高,整理后往往會影響或犧牲纖維或織物本身的特性和性能。較重要的是,這些整理劑或交聯(lián)
汽車手機(jī)配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機(jī)怎么樣
汽車手機(jī)配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機(jī)怎么樣:? ? ? ?由于大多數(shù)塑料表面張力較低,因此過去的很多設(shè)計(jì)都是采用替代材料,只要表面經(jīng)等離子火焰處理機(jī)處理后,能達(dá)到噴漆或粘合等工藝標(biāo)準(zhǔn),就**采用這種材料。近年來,成本、材料的使用性能等都日益成為產(chǎn)品設(shè)計(jì)中的主導(dǎo)因素,這促使汽車制造商開始關(guān)注更多的塑料品種。目前,PP、PC、ABS、SMC、各種彈性體
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