真空鍍膜加工的常用方法

時間：2021-09-16作者：深圳森豐真空鍍膜有限公司瀏覽：41

　　森豐小編告訴你真空鍍膜加工的常用方法，真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料， 使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。

　　(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。

　　(2)陰濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

　　(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或**化合物，獲得沉積薄膜的過程。

　　(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰濺射鍍的**結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。

　　森豐真空鍍膜加工公司創(chuàng)立于1998年，是一家面向**的真空鍍膜加工企業(yè)。公司鍍膜加工業(yè)務涉及鐘表、珠寶、手機、飛機零配件、工模具等領(lǐng)域，在裝飾膜、功能膜、光學膜的真空鍍膜上有著強大的工藝技術(shù)和豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗。


深圳森豐真空鍍膜有限公司專注于真空鍍膜,表面涂層,PVD電鍍加工等

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