光譜鍍層測(cè)厚儀是將光打到樣品上時(shí),樣品分子會(huì)使入射光發(fā)生散射,若部分散射光的頻率發(fā)生改變,則散射光與入射光之間的頻率差。本儀器主要就是通過(guò)確定物質(zhì)的分子結(jié)構(gòu),針對(duì)固體、液體、氣體、**物、高分子等樣品均可以進(jìn)行定性定量分析。 接下來(lái)和一六一起了解光譜鍍層測(cè)厚儀通過(guò)這些方法避免誤差。
盡管光譜鍍層測(cè)厚儀具有很高的精度,但是由于許多因素的影響,仍然存在一定的誤差,那么如何才能巧妙地避免本儀器的誤差呢?
1、系統(tǒng)誤差的來(lái)源
(1)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品和樣品的含量和化學(xué)組成不相同時(shí),可能會(huì)導(dǎo)致矩陣線和分析線的強(qiáng)度發(fā)生變化,從而引入錯(cuò)誤。
(2)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品的物理性質(zhì)和樣品的物理性質(zhì)不相同時(shí),激發(fā)的特征譜線將不同,這將導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。
(3)當(dāng)處于澆鑄狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)與處于退火,淬火,回火,熱軋和鍛造狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)不同時(shí),測(cè)得的數(shù)據(jù)將有所不同。
(4)未知元素光譜的重疊干擾。例如,在熔煉過(guò)程中添加脫氧劑和脫硫劑時(shí),未知的合金元素會(huì)混入系統(tǒng)中,從而導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。
(5)為了系統(tǒng)誤差,有必要嚴(yán)格遵守標(biāo)準(zhǔn)樣品制備的要求。為了檢查系統(tǒng)錯(cuò)誤,有必要使用化學(xué)分析方法來(lái)分析多次校對(duì)的結(jié)果。
2、偶然誤差的來(lái)源
與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。由于光電光譜分析消耗的樣品很少,因此樣品中元素分布的不均勻性和組織結(jié)構(gòu)的不均勻性會(huì)導(dǎo)致不同部位的分析不同,并偶爾出現(xiàn)誤差。
(1)在熔煉過(guò)程中引入夾雜物,導(dǎo)致偏析導(dǎo)致樣品中元素分布不均。
(2)樣品的缺陷,氣孔,裂縫,水泡等。
(3)諸如交叉研磨模式,樣品研磨的過(guò)熱,樣品研磨表面的時(shí)間過(guò)長(zhǎng)以及指紋等因素。
(4)為了減少意外誤差,必須仔細(xì)取樣以樣品的不均勻性和樣品的鑄件缺陷。也可以重復(fù)分析幾次以減少分析誤差。
以上就是一六光譜鍍層測(cè)厚儀生廠商整理分享的關(guān)于光譜鍍層測(cè)厚儀通過(guò)這些方法避免誤差。想了解更多相關(guān)資訊,歡迎持續(xù)關(guān)注。有需要的朋友電話咨詢:400-850-1617。
詞條
詞條說(shuō)明
一六儀器測(cè)試化學(xué)鍍鎳的優(yōu)勢(shì)
在金屬表面處理領(lǐng)域,化學(xué)鍍鎳是一種廣泛應(yīng)用且多功能的處理工藝。該技術(shù)利用化學(xué)鍍鎳液在不通電的情況下,在具有催化表面的鍍件上進(jìn)行氧化還原反應(yīng),形成Ni-P合金鍍層?;瘜W(xué)鎳鍍層可根據(jù)合金成分分為低磷、中磷和高磷,因其出色的特性而被廣泛應(yīng)用于電子、機(jī)械工程、模具和汽車制造等多個(gè)行業(yè)。?化學(xué)鍍鎳的優(yōu)勢(shì)?1. 強(qiáng)大的耐腐蝕性:化學(xué)鍍鎳涂層表現(xiàn)出**的耐腐蝕性,在惡劣環(huán)境和需要防護(hù)化學(xué)腐蝕
上照式x熒光光譜儀有哪些你不知道的產(chǎn)品細(xì)節(jié)?使用注意事項(xiàng)
XAD-200是一款全元素上照式熒光光譜儀,既保留了**測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的膜厚性能,又可滿足RoHS有害元素檢測(cè)及成分分析,搭載全自動(dòng)平臺(tái)實(shí)現(xiàn)XYZ軸編程位移,實(shí)現(xiàn)**多點(diǎn)測(cè)量,測(cè)量軟件置入**的EFP算法及解譜技術(shù),解決了諸多業(yè)界難題。全元素上照式x熒光光譜儀被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。上照式x熒光光譜儀產(chǎn)品細(xì)節(jié):高精密移動(dòng)裝置快速精準(zhǔn)定位;自動(dòng)
熒光光譜儀分析對(duì)象主要有各種磁性材料、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等,以及各種形態(tài)樣品的無(wú)標(biāo)半定量分析,對(duì)于均勻的顆粒度較小的粉末或合金,結(jié)果接近于定量分析的準(zhǔn)確度。 可用于一般樣品(液體、固體)中的穩(wěn)態(tài)熒光測(cè)量和瞬態(tài)熒光測(cè)量,如高分子和**分子自然熒光的研究,液體中大分子分子運(yùn)動(dòng)的研究,固體高分子取向的研究,高聚物光降解和光穩(wěn)定性的研究,光敏化過(guò)程的研究。熒光光譜儀(XRF)由激
光譜分析儀生產(chǎn)廠家介紹光譜儀的構(gòu)成及相關(guān)性能
光譜分析儀在我們社會(huì)生產(chǎn)的各個(gè)領(lǐng)域都進(jìn)行了廣泛的應(yīng)用,但是很多人對(duì)于光譜分析儀了解并不多,如果我們以后需要經(jīng)常使用它的話,還是對(duì)他對(duì)一些了解比較好?,F(xiàn)在光譜分析儀生產(chǎn)廠家一六儀器就帶您從以下八點(diǎn),深度剖析一臺(tái)光譜儀的構(gòu)成及相關(guān)性能介紹。1.光路系統(tǒng)高精度的X熒光光譜儀除了有好的微焦射線管外,還必須具備不可見(jiàn)光(X熒光)垂直聚焦的同時(shí)能與可見(jiàn)光同軸激發(fā)和觀測(cè)被測(cè)物的相同位置;如果還能變焦,就可探測(cè)有
公司名: 江蘇一六儀器有限公司
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