殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化

    殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實(shí)現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化
    上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進(jìn)一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實(shí)現(xiàn)真空過程相關(guān)的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.

    殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化
    諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純度, 以及監(jiān)測高溫真空爐工藝過程相關(guān)氣體成分等能力,  殘余氣體分析儀 HiCube RGA 是過程記錄和質(zhì)量保證中的重要工具. 即使測量正在執(zhí)行, 所有測量值也會得到存儲, 并且可以在不停止測量的情況下追蹤. 即使仍在執(zhí)行測量, 也可以導(dǎo)出測量結(jié)果以進(jìn)行進(jìn)一步分析.


    上海伯東 Pfeiffer 殘余氣體分析儀 HiCube RGA 進(jìn)樣口為 DN16 ISO-K 標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭, 可以根據(jù)客戶需求, 選擇不同的連接接口, 通過調(diào)整 EVN 116 氣體計(jì)量閥實(shí)現(xiàn)進(jìn)樣, 進(jìn)樣氣體流量可調(diào)整, 自 5X10-6 至 3X103 hPa l/s.

    Pfeiffer 殘余氣體分析儀 Hicube RGA 技術(shù)規(guī)格

    渦輪分子泵組

    HiCube? Eco

    功耗

    170W

    電壓(范圍)

    110 - 240 V; 50 / 60 Hz

    氮?dú)獬樗?/p>

    67 l/s

    前級泵在 50 Hz 時(shí)的泵送速度

    1 m3/h

    限真空

    <1X10-7 hPa

    真空計(jì)

    PKR 361

    測量范圍

    1X10-9 至 1X103 hPa

    閥門

    EVN 116

    氣體流量

    可調(diào)整, 自 5X10-6 至 3X103 hPa l/s

    進(jìn)氣口

    DN 16 ISO-KF

     

    PrismaPro

    QMG 250 F1

    QMG 250 F2

    QMG 250 F3

    QMG 250 M1

    QMG 250 M2

    QMG 250 M3

    檢測器

    法拉* Faraday (F)

    電子倍增器/法拉* C-SEM/Faraday (M)

    質(zhì)量數(shù) amu

    1–100

    1–200

    1–300

    1–100

    1–200

    1–300

    四桿直徑/長度

    6 /125 mm

    小檢測限 F hPa *1,2

    4X10-13

    5X10-13

    7X10-13

    -

    -

    -

    小檢測限 M hPa *1,2

    -

    -

    -

    3X10-15

    4X10-15

    5X10-15

    對Ar的靈敏度 F A/hPa*3

    5X10-4

    4X10-4

    3X10-4

    5X10-4

    4X10-4

    3X10-4

    大工作壓力 F hPa

    5X10-4

    大工作壓力 M hPa

    -

    -

    -

    5X10-5

    5X10-5

    5X10-5

    對臨近質(zhì)量數(shù)的影響*1

    < 10 ppm

    < 20 ppm

    < 50 ppm

    < 10 ppm

    < 20 ppm

    < 50 ppm

    操作溫度 分析

    200 °C (max. 150 °C when operating with SEM)

    操作溫度 電子

    5 – 50 °C

    烘烤溫度 分析

    300 °C

    連接法蘭

    DN 40 CF-F

    保壓時(shí)間

    1 ms – 16 s/amu

    峰比值可重復(fù)性

    ± 0.5 %

    接口

    以太網(wǎng)

    電源電壓

    100–240 V AC,50/60 Hz

    HiCube? RGA重量

    25.5 - 26.2 kg

     


    上海伯東銷售維修德國 Pfeiffer 殘余氣體分析儀 HiCube RGA.  四桿質(zhì)譜 PrismaPro 與 HiCube 渦輪分子泵組的搭配, 質(zhì)量數(shù)范圍 1-300, 高分辨率和靈敏度. 適用于殘余氣體分析, 過程監(jiān)測, 泄漏檢測.

    若您需要進(jìn)一步的了解殘余氣體分析儀詳細(xì)信息或討論, 請聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士


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  • 詞條

    詞條說明

  • 上海伯東 Pfeiffer 普發(fā)分子泵維修保養(yǎng)服務(wù)

    上海伯東是德國普發(fā) Pfeiffer 授權(quán)銷售維修中心, 自 2002年以來, 已累計(jì)為過 100, 000+ 家企業(yè)提供維修保養(yǎng)服務(wù), 客戶遍布工業(yè), 科研, 鍍膜和半導(dǎo)體行業(yè), 維修中心使用 100 % Pfeiffer 原廠部件和原裝進(jìn)口檢測設(shè)備對維修產(chǎn)品做全方面的性能測試, 上海伯東擁有完全的拆解, 維修能力, 提供快速, 高質(zhì)量的維修保養(yǎng)服務(wù).?伯東公司在上海,?臺

  • 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

    上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3

  • KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

    立方氮化硼(cBN)由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點(diǎn), 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

  • HVA 真空閥門用于太陽能電池生產(chǎn)

    HVA真空閥門用于太陽能電池生產(chǎn)?太陽能電池又稱為 ”太陽能芯片” 或 ”光電池”, 是一種利用太陽光直接發(fā)電的光電半導(dǎo)體薄片. 它只要被滿足一定照度條件的光照到, 瞬間就可輸出電壓及在有回路的情況下產(chǎn)生電流. 在物理學(xué)上稱為太陽能光伏(Photovoltaic, 縮寫為PV), 簡稱光伏.太陽能電池是通過光電效應(yīng)或者光化學(xué)效應(yīng)直接把光能轉(zhuǎn)化成電能的裝置. 以光伏效應(yīng)工作的晶硅太陽能電池

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