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PVD技術(shù)在半導(dǎo)體器件中的應(yīng)用
在快速發(fā)展的半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,物相沉積(PVD)是實(shí)現(xiàn)薄膜沉積工藝精度和效率的關(guān)鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用。物相沉積涉及在半導(dǎo)體襯底上沉積薄膜,利用諸如濺射或蒸發(fā)等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導(dǎo)體制造中的寶貴工具,可以創(chuàng)建復(fù)雜和的設(shè)備。PVD在微電子學(xué)中的應(yīng)用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關(guān)鍵作用,TFT是平板顯示器、發(fā)光二管(OLED)
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有哪些特點(diǎn)《臺(tái)風(fēng)資訊》
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學(xué)氣相沉積),另一個(gè)是PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積),它們都是在20世紀(jì)70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點(diǎn)是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機(jī)物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內(nèi)應(yīng)力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對(duì)基材沒什么影響,避免了
鵬城半導(dǎo)體參加2022深圳市坪山區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展商端研討會(huì)
2022年5月31日,由廣東省半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)主辦的以“科技創(chuàng)芯·智匯坪山”為主題的2022年深圳市坪山區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展**研討會(huì)在坪山區(qū)創(chuàng)新廣場(chǎng)東部之芯成功舉辦,本次**研討會(huì)有效促進(jìn)產(chǎn)業(yè)科研成果與坪山區(qū)優(yōu)勢(shì)資源高效對(duì)接,得到了深圳市坪山區(qū)工業(yè)和信息化局的支持。**研討會(huì)現(xiàn)場(chǎng)近50位****、院士*及產(chǎn)業(yè)界嘉賓出席了本次**研討會(huì),其中主要**及貴賓有坪山區(qū)一屆政協(xié)**陳主,坪山區(qū)副區(qū)長(zhǎng)吳志
在xian jin封裝領(lǐng)域中,無論是2.5D封裝中的interposer 還是3D封裝中都要用到TSV,但是zui近很多人都聽說玻璃通孔(Through Glass Via,TGV)這個(gè)詞。玻璃通孔(TGV)潛能ju da,未來可能將是xian jin封裝技術(shù)中的??汀1疚膶⒑?jiǎn)要描述玻璃通孔(TGV)在xian jin封裝的應(yīng)用及發(fā)展趨勢(shì)以及工藝簡(jiǎn)介。玻璃基板是下一代芯片基板,he xin材料由玻
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機(jī): 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區(qū)留仙大道3370號(hào)南山智園崇文園區(qū)3號(hào)樓304
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供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 小型 PC08 化學(xué)氣相沉積小型LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 PC07 化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空 PC06 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 金剛石散熱晶圓片 襯底
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復(fù)合鍍膜機(jī)
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
手 機(jī): 13632750017
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地 址: 廣東深圳南山區(qū)留仙大道3370號(hào)南山智園崇文園區(qū)3號(hào)樓304
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