EDI純水設(shè)備

    EDI 純水設(shè)備

    一、工作原理


      離子交換樹脂的作用

      EDI(Electrodeionization)純水設(shè)備主要基于離子交換樹脂來去除水中的離子。離子交換樹脂分為陽離子交換樹脂和陰離子交換樹脂。陽離子交換樹脂帶有酸性基團(tuán),能夠吸附水中的陽離子,如鈣(Ca2?)、鎂(Mg2?)、鈉(Na?)等,并將氫離子(H?)釋放到水中。例如,當(dāng)含有鈣、鎂離子的水通過陽離子交換樹脂時,樹脂上的氫離子會與水中的鈣、鎂離子發(fā)生交換反應(yīng),從而去除水中的陽離子雜質(zhì)。

      陰離子交換樹脂帶有堿性基團(tuán),它可以吸附水中的陰離子,像氯離子(Cl?)、硫酸根離子(SO?2?)、碳酸根離子(CO?2?)等,同時釋放出氫氧根離子(OH?)。在 EDI 設(shè)備中,經(jīng)過陽離子交換后的水接著通過陰離子交換樹脂,水中的陰離子被樹脂吸附,氫氧根離子被釋放,這樣水中的陰陽離子就得到了初步的去除。

      電場作用下的離子遷移

      在 EDI 設(shè)備中,設(shè)有電極和直流電場。當(dāng)帶有離子交換樹脂的水處于電場中時,離子會在電場力的作用下發(fā)生遷移。被離子交換樹脂吸附的離子會向相反電荷的電極方向移動,從而實現(xiàn)離子的深度去除。例如,陽離子會向陰極遷移,陰離子會向陽極遷移。在遷移過程中,離子會在樹脂顆粒間的通道中移動,較終被排出設(shè)備,使得水中的離子濃度進(jìn)一步降低,達(dá)到生產(chǎn)純水的目的。

      連續(xù)再生過程

      與傳統(tǒng)的離子交換樹脂柱需要定期用化學(xué)藥劑再生不同,EDI 設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)樹脂的連續(xù)再生。在電場的作用下,水被電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子會對離子交換樹脂進(jìn)行再生。例如,當(dāng)陽離子交換樹脂吸附了較多的陽離子后,水中電解產(chǎn)生的氫離子會將樹脂上吸附的陽離子置換下來,使樹脂恢復(fù)交換能力;同樣,陰離子交換樹脂也可以通過氫氧根離子進(jìn)行再生。這種連續(xù)再生的過程確保了設(shè)備的長期穩(wěn)定運(yùn)行,減少了化學(xué)藥劑的使用和再生操作的頻率。

    二、主要組成部分


      預(yù)處理單元

      機(jī)械過濾器:通常采用石英砂、活性炭等作為過濾介質(zhì),用于去除水中的大顆粒懸浮物、泥沙、鐵銹等雜質(zhì)。例如,石英砂過濾器可以攔截直徑大于其濾料孔隙的顆粒,防止這些雜質(zhì)進(jìn)入后續(xù)的處理單元,保護(hù) EDI 模塊。

      軟化器:主要用于去除水中的鈣、鎂等離子,降低水的硬度。軟化器內(nèi)部填充有陽離子交換樹脂,通過離子交換反應(yīng)將水中的鈣、鎂離子置換為鈉離子,從而避免在 EDI 模塊中產(chǎn)生水垢,影響設(shè)備的性能。

      EDI 模塊

      這是 EDI 純水設(shè)備的**部分。EDI 模塊由多個隔室組成,包括淡水室、濃水室和電極室。在淡水室中裝有離子交換樹脂,水在這里進(jìn)行離子交換和離子遷移過程,從而去除水中的離子,得到純水。濃水室用于收集從淡水室遷移過來的離子,電極室則提供電場,驅(qū)動離子的遷移和樹脂的再生。EDI 模塊的性能直接決定了設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量和效率。

      后處理單元

      紫外線殺菌器:用于殺滅水中殘留的細(xì)菌、病毒等微生物。紫外線能夠破壞微生物的 DNA 結(jié)構(gòu),使其失去繁殖和生存能力。在 EDI 純水設(shè)備中,經(jīng)過 EDI 模塊處理后的水雖然離子含量降低,但仍可能含有微生物,紫外線殺菌器可以有效地解決這個問題,確保出水的微生物安全性。

      精密過濾器:進(jìn)一步去除水中可能殘留的微小顆粒和膠體物質(zhì)。精密過濾器的濾芯孔徑非常小,通??梢赃_(dá)到 0.1 - 1 微米,能夠攔截經(jīng)過**處理步驟后仍然存在的微小雜質(zhì),提高出水的清澈度和純度。

    三、優(yōu)點(diǎn)


      高純度產(chǎn)水

      EDI 純水設(shè)備能夠生產(chǎn)出高質(zhì)量的純水,其電阻率可以達(dá)到 18.2MΩ?cm 以上。這種高純度的水幾乎不含任何離子、**物和微生物,完全符合電子、制藥、化工等行業(yè)對**純水的嚴(yán)格要求。例如,在電子芯片制造過程中,需要使用高純度的水來清洗芯片,防止雜質(zhì)對芯片性能產(chǎn)生影響,EDI 純水設(shè)備正好能夠滿足這一需求。

      環(huán)保節(jié)能

      相較于傳統(tǒng)的離子交換樹脂再生方法,EDI 設(shè)備*使用大量的酸堿化學(xué)藥劑進(jìn)行再生。這不僅減少了化學(xué)藥劑的儲存、運(yùn)輸和使用過程中的安全風(fēng)險,還避免了化學(xué)再生過程中產(chǎn)生的大量酸堿廢水,對環(huán)境較加友好。同時,EDI 設(shè)備在運(yùn)行過程中的能耗相對較低,其通過電場驅(qū)動離子遷移,能量利用效率較高。

      連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行

      由于具有連續(xù)再生的功能,EDI 純水設(shè)備可以長時間連續(xù)運(yùn)行,不需要頻繁地停機(jī)進(jìn)行再生操作。這對于需要不間斷供應(yīng)純水的工業(yè)生產(chǎn)過程非常重要。例如,在制藥企業(yè)的生產(chǎn)線上,需要穩(wěn)定的純水供應(yīng)來進(jìn)行藥品的配制和清洗等操作,EDI 設(shè)備能夠很好地滿足這一要求,保證生產(chǎn)的順利進(jìn)行。

      占地面積小

      EDI 純水設(shè)備的集成化程度較高,各個組成部分緊湊地組合在一起。與傳統(tǒng)的純水制備系統(tǒng)相比,它占用的空間較小。這對于場地有限的企業(yè)或?qū)嶒炇襾碚f是一個很大的優(yōu)勢,能夠在較小的空間內(nèi)實現(xiàn)高效的純水生產(chǎn)。

    四、缺點(diǎn)


      初期投資成本高

      EDI 純水設(shè)備的價格相對較高,主要是因為其**的 EDI 模塊技術(shù)復(fù)雜,制造成本較高。此外,設(shè)備的預(yù)處理單元和后處理單元也需要配備高質(zhì)量的過濾器、殺菌器等部件,這些都會增加設(shè)備的整體投資成本。對于一些小型企業(yè)或預(yù)算有限的用戶來說,初期的資金投入可能會是一個較大的障礙。

      對進(jìn)水水質(zhì)要求較高

      為了保證 EDI 設(shè)備的正常運(yùn)行和產(chǎn)水質(zhì)量,進(jìn)水水質(zhì)需要滿足一定的要求。例如,進(jìn)水的硬度不能過高,否則會導(dǎo)致離子交換樹脂過快失效和 EDI 模塊內(nèi)部結(jié)垢;進(jìn)水的**物含量也需要控制在較低水平,否則會影響離子交換和離子遷移的效率。因此,在使用 EDI 設(shè)備之前,通常需要對進(jìn)水進(jìn)行較為嚴(yán)格的預(yù)處理。

      維護(hù)和操作要求專業(yè)

      EDI 純水設(shè)備涉及到復(fù)雜的電氣、化學(xué)和機(jī)械部件,需要有專業(yè)的技術(shù)人員進(jìn)行維護(hù)和操作。例如,EDI 模塊的參數(shù)設(shè)置、故障診斷和維修都需要一定的專業(yè)知識和技能。如果維護(hù)不當(dāng),可能會導(dǎo)致設(shè)備性能下降、產(chǎn)水質(zhì)量變差甚至設(shè)備損壞。

      運(yùn)行成本受水質(zhì)波動影響

      當(dāng)進(jìn)水水質(zhì)發(fā)生較大波動時,如水中的離子濃度突然升高或**物含量增加,EDI 設(shè)備的運(yùn)行成本可能會增加。這是因為設(shè)備需要消耗更多的能量來處理這些雜質(zhì),或者需要較頻繁地更換預(yù)處理單元中的過濾介質(zhì)和離子交換樹脂,從而導(dǎo)致運(yùn)營成本上升。


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  • 詞條

    詞條說明

  • EDI純水設(shè)備適用范圍

    電子工業(yè)領(lǐng)域半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過程中,幾乎每一個環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達(dá) 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、**物和微生物對芯片制造過程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠為光刻膠的

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