KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：29

合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。

 

北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌  ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220  輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.

 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號(hào)	RFICP220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V
柵直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦,   平行,   散射
流量	10-40 sccm
通氣	Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	30 cm
直徑	41 cm
中和器	LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

試驗(yàn)中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220  輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 ZrAlN 薄膜, 好的對(duì) ZrAlN 薄膜進(jìn)行研究.

 

KRI 離子源的特功能實(shí)現(xiàn)了好的性能, 增強(qiáng)的性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

 

因此,  該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

 

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• 詞條

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