在激光加工領(lǐng)域中,普遍需要得到能量均勻分布的正方形的勻化光斑。針對這一類激光勻化需求,我司推出過雙微透鏡陣列的勻化方案。該方案使用的是兩片子單元為正方形的微透鏡陣列,該方案中的光路調(diào)試過程中,兩片微透鏡陣列的子單元要求對準(zhǔn),對調(diào)試的精度要求稍微偏高?,F(xiàn)我司推出使用兩片柱面微透鏡得到正方形勻化光斑的方案,降低了對調(diào)試的精度要求。本文針對后者勻化方案作了簡要介紹。
常見的雙微透鏡勻化光路,如下圖所示:
激光光源經(jīng)過擴(kuò)束準(zhǔn)直后,準(zhǔn)直入射到**面微透鏡陣列上,微透鏡陣列上的每個(gè)子單元是一個(gè)個(gè)陣列排布的微小的聚焦透鏡,光束經(jīng)過的眾多子單元的分割并重新聚焦,形成了陣列排布的焦點(diǎn)??山频貙⑷肷涞墓馐?,看成對應(yīng)于透鏡陣列的光束簇陣列。重新聚焦后的多個(gè)小光束相互疊加,基于陣列排布的對稱性,也即出射小光束的對稱性,小光束的不均勻性相互抵消,較終在接收屏幕上形成均勻的目標(biāo)光斑。較終光斑的計(jì)算公式如下:
DFT= pLA?fFL/ fLA2
原理相近的,使用兩片相同的柱面微透鏡,柱列的pitch值對應(yīng)上式的pLA,柱面微透鏡的焦距對應(yīng)上式的fLA2。根據(jù)所需的正方形勻化光斑的邊長及工作距離,即可算出對應(yīng)的柱面微透鏡的p/f值,較終選擇合適的柱面微透鏡。
調(diào)試過程中,需要主要的事項(xiàng)主要有光源質(zhì)量M2、對準(zhǔn)、光路放置、入射光準(zhǔn)直問題。
光源的質(zhì)量M2只要大于5一般都適用于該平**光整形光路。該激光勻化光路是將準(zhǔn)直入射的光,重新細(xì)分成規(guī)則排布的細(xì)小光束,對稱展開實(shí)現(xiàn)激光能量在光斑區(qū)域的均勻分布。其均勻性,根據(jù)實(shí)驗(yàn)條件不同,可以達(dá)到70~80%。理論上,口徑P越小,其勻化效果越好。但,同時(shí)會帶來衍射的干擾的影響,導(dǎo)致終端的勻化效果反而不理想。一般我們建議適用口徑盡可能大于300μm。如果激光的光源的想干性沒那么強(qiáng)的,也可以適當(dāng)小些。需要注意的是,勻化光斑的四方微弱的衍射屬于正常情況,可以同過提高精度和面型光潔度改善,但是對應(yīng)的成本過高,性價(jià)比不高。相應(yīng)的,如果相干性強(qiáng)的,則需要較大的口徑,大于500μm。
正交對準(zhǔn)——主要是兩片相同的柱面微透鏡之間柱列成90°正交對準(zhǔn),這也是使用兩片柱面微透鏡勻化正方形光斑的主要優(yōu)點(diǎn)。相對于兩片正方形子單元微透鏡陣列的勻化方案的對準(zhǔn):需要將兩片微透鏡陣列的子單元也要對準(zhǔn),這就需要不斷地微調(diào)兩片微透鏡陣列的相對位置;而使用兩片柱面微透鏡的勻化,只需要將兩片柱面微透鏡之間柱列成90°正交對準(zhǔn),大大降低了調(diào)節(jié)難度。
光路放置問題——首先是柱面微透鏡勻化的放置。兩片柱面微透鏡是凸面對外,平面相對的。兩者之間的距離即焦距的長度,可以稍微長一些。聚焦鏡的位置,沒有嚴(yán)格的要求,可以等光路放置好后調(diào)整其前后距離對平**光整形光斑的大小和效果做微調(diào)。也可以微調(diào)兩個(gè)微透鏡陣列之間的距離微調(diào)。
入射光的準(zhǔn)直——柱面微透鏡勻化方案的入射光的準(zhǔn)直性越好,出射的效果越佳。
目前,使用兩片柱面微透鏡的勻化方案只適用于得到正方形的勻化光斑,若想得到長方形的勻化光斑,仍需要使用兩片子單元為長方形的微透鏡陣列來調(diào)節(jié)光路。
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