擁有一臺 你在材料測試方面微型真空探針臺
多功能 可擴展 顯微鏡熱臺 微型探針臺
氣敏濕敏探針臺 拉曼光學測試臺 熱電探針臺
光電探針臺 非磁性霍爾效應探針臺
測試腔體內部裝有不銹鋼加熱承載臺,臺面為φ30,臺面較高可升溫到較高400℃。臺面四周裝有微型3軸可移動鎢鋼探針,特別適合微小未封裝的叉指電極等傳感器測試。該腔體設計有進氣口和抽真空接口其真空度用機械泵可達<5Pa分子泵可達<-3Pa。真空信號連接處使用真空電極信號接頭,保證氣密性及抗干擾性能。
使用時將需將待檢測的器件方在加熱臺面,探針良好處由3軸可移動探針手動調節(jié)移動至被測試器件的引腳處,外部信號線連接測試儀器來測試電學信號。
詞條
詞條說明
磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。傳統(tǒng)的濺射技術的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產生漂移,因而導致傳濺射效率低,電
KT-Z1604T探針臺主要應用于傳感器,半導體,光電,集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā),旨在確保質量及可靠性,并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺的承載臺為60x60不銹鋼臺面,臺面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設計有進氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動,三個方向均可在真空環(huán)境下精密移位調節(jié),其中X
1、樣品臺旋轉,多樣品同時鍍膜時,鍍膜厚度比較均勻。2、預濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質,擋板可以保護樣品,提高薄膜質量3、帶有水冷系統(tǒng),可以長時間濺射鍍膜,厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射,提高附著力,濺射速率快,比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬較快能達到1-2納米每秒,5、不但可以電鏡制樣,還可以制作金屬電極。6、可擴展膜厚監(jiān)測,監(jiān)測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要
Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。?? ? 鄭州科探儀器設備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,
公司名: 鄭州科探儀器設備有限公司
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