華浦環(huán)保：**純水設(shè)備工藝及技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

時(shí)間：2023-06-26作者：西安華浦水處理設(shè)備有限公司瀏覽：55

**純水設(shè)備設(shè)備簡介

**純水設(shè)備是采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、**純化處理以及后級處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及**物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。

EDI（Electrodeionization）又稱連續(xù)電除鹽技術(shù)，它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生。




**純水設(shè)備工藝流程

1、原水泵作用：提供恒壓保進(jìn)水壓力，該泵具有率、低噪音等特點(diǎn)。

2、砂濾器作用：濾器內(nèi)填裝具有良好級配的精制石英砂，用于截留進(jìn)水中的泥沙、雜質(zhì)、膠狀物體、懸浮物等，凈化進(jìn)水水質(zhì)。

3、碳濾器作用：濾器內(nèi)裝填凈水**顆粒碳，用于吸附水中色素、異味、余氯及**物。使余氯含量≤1PPM。

4、RO主機(jī)作用：通過高壓泵對過濾水施加大于滲透壓的壓力，利用RO膜的分離技術(shù)，有效去除分子量大于200的幾乎包括所有類型的懸浮微粒、**硅膠體、病毒、細(xì)菌和**污染物。制造純水，使純水電導(dǎo)率≤10μs,(原水質(zhì)≤100PPM)。

5、EDI作用：利用電離子交換，分別將純水中未去除的陽離子換為H+ 陰離子換為OH-，并迅速合成水，使純水電阻率≥15MΩ以上。




**純水設(shè)備技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點(diǎn)：

1.離子交換樹脂的用量少，約相當(dāng)于傳統(tǒng)離子交換法樹脂用量的5%。

2.離子交換樹脂不需酸，堿化學(xué)再生，節(jié)約大量酸、堿和清洗用水，大大降低勞動強(qiáng)度。

3.無廢酸、廢堿液排放，是清潔的生產(chǎn)技術(shù)，屬環(huán)保產(chǎn)品。

4.過程易實(shí)現(xiàn)自動控制，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，與RO等水處理技術(shù)相結(jié)合，能形成完善的純水、**純水生產(chǎn)線。

5.產(chǎn)水水質(zhì)高，可達(dá)到國家電子級水I級標(biāo)準(zhǔn)，電阻率為15～18MΩ·cm。

6.有優(yōu)異的除弱解離物質(zhì)（如二氧化碳、硅、硼、等）地能力，較適用于**純水的需要。

7.純水生產(chǎn)過程連續(xù)進(jìn)行，*像離子交換床那樣一套在用一套再生地重復(fù)設(shè)置。




EDI**純水設(shè)備系統(tǒng)的控制方式

EDI**純水設(shè)備系統(tǒng)的控制方式有手動與自動兩種控制，可達(dá)到下述要求：

1.自來水箱的自動：自來水箱的液位到達(dá)低位時(shí)，進(jìn)行自動，到高位時(shí)停止。

2.自來水箱水位到達(dá)一定液位時(shí)，系統(tǒng)開始工作，當(dāng)純水箱滿水時(shí)系統(tǒng)停止。

3.自來水箱處于低水位時(shí)，啟動缺水保護(hù)，系統(tǒng)完全停止，手動與自動操作均不能進(jìn)行。

4.反滲透系統(tǒng)每次開機(jī)時(shí)進(jìn)行開機(jī)清洗，開機(jī)清洗的時(shí)間控制在30秒左右（時(shí)間是可調(diào)節(jié)的），當(dāng)反滲透運(yùn)行一段時(shí)間后進(jìn)行定時(shí)清洗（時(shí)間是可調(diào)節(jié)的）。

5.當(dāng)預(yù)處理壓力達(dá)不到2kg時(shí)，反滲透主機(jī)受低壓力保護(hù)。

6.當(dāng)軟水器工作到72小時(shí)時(shí)，系統(tǒng)進(jìn)行自動的再生處理。

7.當(dāng)純水箱缺水EDI系統(tǒng)不能工作。

8.當(dāng)**純水箱滿水時(shí)，EDI膜堆停止工作。

9.EDI膜堆受EDI濃水流量開關(guān)控制，流量達(dá)不到要求時(shí)，EDI膜堆自動停機(jī)。

應(yīng)用領(lǐng)域

☆半導(dǎo)體行業(yè)：半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體元件材料、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體封裝等。

☆電子行業(yè)：電容器、電腦元件、集成電路、顯像管等。

☆食品行業(yè)：啤酒、乳業(yè)、飲用礦泉水、食品等。

☆電鍍行業(yè)：槽液、清洗工件用水等。

☆化學(xué)行業(yè)：可用于配制實(shí)驗(yàn)溶液、洗滌操作器材和化學(xué)試劑等。

☆實(shí)驗(yàn)室用水：**純物質(zhì)分析、痕量物質(zhì)、原子光譜等。


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