薄膜面板廠的薄膜開關(guān)的展望

    薄膜面板廠的薄膜開關(guān)的展望

    關(guān)于雨菲薄膜開關(guān)技術(shù)前景的展望至今,依賴于熱力學(xué)的制備方法,即使合成了具有完全新性質(zhì)的物質(zhì),但其表面結(jié)構(gòu)與組成仍不易被了解。因此,利用物理學(xué)中成熟的薄膜技術(shù),對于促進催化科學(xué)深人研究具有重大意義。

    薄膜開關(guān)技術(shù)本質(zhì)上是制備二維結(jié)構(gòu)的技術(shù),有可能成為制備模型催化劑規(guī)定表面的方法,但在現(xiàn)階段對開發(fā)實用催化劑還難以直接應(yīng)用。像外延和合成人工晶格那樣,高精度控制結(jié)構(gòu),使材料本身特性能得以充分發(fā)揮。現(xiàn)在薄膜面板工廠利用薄膜技術(shù)控制微細(xì)結(jié)構(gòu)和組成,成為Ga,GaAs,GaP等半導(dǎo)體電子材料為對象的研究中心。

    但對催化關(guān)系大的金屬、金屬氧化物、金屬硫化物等材料的資料的積累還不充分,將應(yīng)重點進行研究。但是,對于作為催化研究對象的各個物質(zhì),如果確立了高精度控制結(jié)構(gòu)技術(shù),利用結(jié)晶研究“不同反應(yīng)性”,"Partclesizecffect","Supporteffect","Strongmet-al-supportinteraction”等,就有可能提供理想模型表面,特別是利用來合成人工晶格。

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