根據(jù) AMS 2644的規(guī)范要求,每批磁通的滲透劑都經(jīng)過(guò)了較佳可去除性測(cè)試,可去除性測(cè)試也是列入QPL AMS 2644認(rèn)證的必要性能測(cè)試之一。
可去除性是衡量滲透劑在檢測(cè)過(guò)程中從零件表面去除的難易程度,從而產(chǎn)生較少的殘留熒光背景。在施用滲透劑并滲透后,必須從零件表面去除滲透劑,以確保在零件表面上保留相對(duì)較低的熒光背景。較低的背景可產(chǎn)生較高的對(duì)比度的缺陷指示,從而產(chǎn)生較高質(zhì)量的檢測(cè),降低操作員的疲勞。
如何確定可去除性?
可去除性是基于ASTM E1417標(biāo)準(zhǔn)對(duì)滲透劑的在役測(cè)試,以將使用中的產(chǎn)品與新鮮的新材料進(jìn)行比較,并確保使用中的材料仍然符合預(yù)期。磁通對(duì)每個(gè)批次的滲透劑都進(jìn)行測(cè)試,以確保運(yùn)往客戶的產(chǎn)品具有較佳的可去除性。測(cè)試可去除性的過(guò)程包括施加滲透劑,在允許*的時(shí)間內(nèi)滲透,然后根據(jù)相關(guān)滲透劑方法的要求沖洗或去除。
將去除后產(chǎn)生的背景熒光與現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)或規(guī)范進(jìn)行比較,以確定可去除性水平:較低的背景熒光表示較好的可去除性,而較高的背景熒光表示較差的可去除性。這兩個(gè)因素,可去除性和背景,是相輔相成的,并且是反向相關(guān)的。
請(qǐng)注意,在可去除性方面,并非所有工件都是平等的,即使使用相同的滲透劑也是如此。較粗糙的鑄件通常會(huì)使?jié)B透劑較難去除,并導(dǎo)致較高的背景,特別是對(duì)于較高靈敏度的滲透劑。相反,當(dāng)所有其他變量保持不變時(shí),光滑且高完成度的零件通常會(huì)顯示出較好的可去除性。
如何進(jìn)行滲透劑可去除性測(cè)試?
清潔并干燥測(cè)試工件。
將滲透劑涂抹在測(cè)試工件上。
根據(jù)滲透劑測(cè)試級(jí)別3(III)編寫的部分特定技術(shù)表中的*時(shí)間進(jìn)行滲透劑滲透。
使用測(cè)試工件標(biāo)準(zhǔn)中的沖洗時(shí)間和水壓沖洗掉工件上的滲透劑(如果不是方法A滲透劑,則根據(jù)該滲透劑方法的標(biāo)準(zhǔn)將其除去)。
干燥測(cè)試工件。
施加顯像劑。
在UV-A光下檢查并評(píng)估存在的背景熒光水平。
詞條
詞條說(shuō)明
? ? ?在自然環(huán)境下,磁力線總能堅(jiān)持其連續(xù)性。當(dāng)有磁性的工件放在使其豐滿的磁場(chǎng)中時(shí),磁力線便會(huì)被引導(dǎo)通過(guò)工件。假設(shè)磁力線遇到的工件材料表面不平坦,磁力線就會(huì)繞過(guò)這些區(qū)域,而致使工件表面構(gòu)成漏磁場(chǎng)。如此一來(lái),缺陷處的兩頭就構(gòu)成了磁較,將探傷機(jī)中的磁粉吸引到缺陷處的周圍,構(gòu)成了明顯的線狀或點(diǎn)狀堆積。? ? ? 自然界中磁力線總能堅(jiān)持其連續(xù)性
磁粉探傷機(jī)的功效如何能發(fā)揮檢測(cè)工業(yè)的技術(shù)
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探傷機(jī)操作方面對(duì)于技術(shù)人員的要求
? ? ? ?便攜式磁粉探傷機(jī)在其工作過(guò)程中有著一系列的安全防護(hù)要求,對(duì)于操作機(jī)器的工作人員的要求也是非常高的,對(duì)磁粉探傷用X射線或射線處照射的防護(hù)原則一般有三種,即屏蔽防護(hù)、距離防護(hù)、時(shí)間防護(hù)。? ? ? ?操作磁粉探傷機(jī)本身也是一門專業(yè)的技術(shù),由于探傷人員的專業(yè)知識(shí)、實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)、責(zé)任心等原因,可能使探傷質(zhì)量滿足不了檢
便攜式磁粉探傷機(jī)使用可控硅作為電流調(diào)控閥
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