石材晶面設(shè)備或晶面機(jī)種類
1、中心晶面機(jī)
2、偏頭晶面機(jī)
3、高速晶面機(jī)
4、全自動(dòng)高速晶面機(jī)
5、全自動(dòng)膏拋機(jī)
6、智能性晶面機(jī)
四、種類晶面機(jī)特點(diǎn)分析
(一)中心晶面機(jī)
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2、特點(diǎn):通用性強(qiáng),即可以用于小面積石材打磨,又可以用于石材晶面拋光;
3、存在問題:晶面拋光效率低,需要一定專業(yè)基礎(chǔ),且安全性差,技術(shù)不過關(guān)*碰壞現(xiàn)場物品;特別是用于拋晶面膏時(shí)。
(二)偏頭晶面機(jī):
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2、特點(diǎn):能用性強(qiáng),也可以用于小面積石材打磨,比中心機(jī)較適用于晶面拋光;
3、存在問題:晶面拋光時(shí)阻力相對(duì)于中心機(jī)適當(dāng)小些,但仍然較大,若用于晶面膏拋光,還是需要專業(yè)男性;同樣存在碰壞現(xiàn)場物品的安全隱患。
(三)高速晶面拋光機(jī)
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2、特點(diǎn):安全性好,不受技術(shù)和人員限制。
3、存在問題:較近1-2年內(nèi)高速晶面機(jī)發(fā)展快速,但有些混亂-----有的速度仍然不理想、有的只能拋劑和漿(仍然是拋**材料),速度起來了,操作也輕松些,但仍然無法將較好的晶面材料無機(jī)膏質(zhì)晶面材料拋出理想的晶面效果。個(gè)別高速拋光機(jī)能拋膏如廣州正一品公司生產(chǎn)的膏拋機(jī)可以完成晶面膏的高品質(zhì)晶面拋光,但是效率還不理想。存在膏的飛濺問題、粉塵問題、及難于收干而影響效率問題。
(四)全自動(dòng)膏拋機(jī)
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2、特點(diǎn):這是具有10項(xiàng)**的產(chǎn)品,不僅能將較好的晶面膏拋出高品質(zhì)、同時(shí)也解決全安問題、輕松問題,效率問題。基本解決了膏飛濺、粉塵、難于收干而造成的效率低等問題。是目前較適合拋晶面膏的晶面機(jī)。同時(shí)它也適用于拋漿和劑。
(五)智能性晶面機(jī)
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2、目前還在研究中,但當(dāng)然國內(nèi)研究方向可能存在一定錯(cuò)誤。智能化功能是成熟的技術(shù),但應(yīng)用于晶面拋光,國內(nèi)都走入一個(gè)誤區(qū):拋光材料他們選擇方向:**種用草酸塊或者是鉆石墊(就是在拋光墊上噴涂不同目數(shù)的研磨粒子200目、400、800、1500、3000、8000目)。前者是化學(xué)拋光,后者多為物理研磨。
3、這兩種拋光原理存在以下問題
(1)草酸塊存在問題與拋光粉的問題是一樣的:只對(duì)大理石有效果,同時(shí)可能帶來泛堿;對(duì)**崗石或無機(jī)磨石等拋光可能造成魚鱗光澤(**反應(yīng)能快速反應(yīng)的物質(zhì),快速反應(yīng)物質(zhì)內(nèi)陷,不反應(yīng)突起所致);
(2)纖維上磨料拋光:對(duì)同種材質(zhì)石材能拋出理想光澤,但對(duì)磨石或**麻石等其中成分軟硬不一致的成分時(shí),同樣出現(xiàn)魚鱗光澤(纖維墊子上的研磨料具有一定形變,**將軟質(zhì)成分快速磨損,硬質(zhì)磨損慢所致)
(3)無保護(hù)作用:我們長期限入誤區(qū),認(rèn)為直接研磨出來的光澤是耐久的,耐磨的。實(shí)際是個(gè)錯(cuò)誤的認(rèn)知。直接研磨出來的大理石表面仍然是碳酸鹽成分,表面硬度也不高,不耐酸雨不耐磨,若在表面用納米二氧硅膏生成新二氧化硅表面,可以增加其耐酸雨和耐磨性。
五、結(jié)論
1、較好的晶面材料是晶面膏,特別是無蠟質(zhì)甚至無任何**材料的納米二氧化硅晶面膏;
2、較好的晶面拋光設(shè)備或機(jī)器是全自動(dòng)高(膏)拋機(jī):不僅能拋晶面膏,同樣可以拋晶面劑或晶面漿。具有高效、高品質(zhì)、高質(zhì)量、安全、輕松、環(huán)保等當(dāng)代較優(yōu)質(zhì)功能與品質(zhì)。
詞條
詞條說明
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