化學(xué)氣相沉積技術(shù)的使用
生產(chǎn)晶須:
晶須屬于一種以為發(fā)育的單晶體,它在符合材料范疇中有著很大的作用,能夠用于生產(chǎn)一些新型復(fù)合材料。 化學(xué)氣相沉積法在生產(chǎn)晶須時使用的是金屬鹵化物的氫還原性質(zhì)。化學(xué)氣相沉積法不但能制備出各類金屬晶須,同時也能生產(chǎn)出化合物晶須,比如氧化鋁、金剛砂、碳化鈦晶須等等。
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物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積的區(qū)別
化學(xué)氣相沉積過程中有化學(xué)反應(yīng),多種材料相互反應(yīng),生成新的的材料。
物理氣相沉積中沒有化學(xué)反應(yīng),材料只是形態(tài)有改變。
物理氣相沉積技術(shù)工藝過程簡單,對環(huán)境改善,無污染,耗材少,成膜均勻致密,與基體的結(jié)合力強。
化學(xué)雜質(zhì)難以去除。優(yōu)點可造金屬膜、非金屬膜,又可按要求制造多成分的合金膜,成膜速度快,膜的繞射性好
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PCVD工藝的具體流程
PCVD工藝的具體流程如下:
(1)沉積。沉積過程借助低壓等離子體使流進高純度石英玻璃沉積管內(nèi)的氣態(tài)鹵化物和氧氣在1000℃以上的高溫條件下直接沉積成設(shè)計要求的光纖芯中玻璃的組成成分。
(2)熔縮。沿管子方向往返移動的石墨電阻爐對小斷旋轉(zhuǎn)的管子加熱到大約2200℃,在表面張力的作用下,分階段將沉積好的石英管熔縮成一根實心棒(預(yù)制棒)。
(3)套棒。為獲得光纖芯層與包層材料的適當(dāng)比例,將熔縮后的石英棒套入一根截面積經(jīng)過精心挑選的管子中,這樣裝配后即可進行拉絲。
(4)拉絲。套棒被安裝在拉絲塔的**部,下端緩緩放入約2100℃的高溫爐中,此端熔化后被拉成所需包層直徑的光纖(通常為125 cm),并進行雙層涂覆和紫外固化。
(5)光纖測試。拉出的光纖要經(jīng)過各種試,以確定光纖的幾何、光學(xué)和機械性能。
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詞條
詞條說明
電弧爐 電弧爐(electric arc furnace)利用電極電弧產(chǎn)生的高溫熔煉礦石和金屬的電爐。氣體放電形成電弧時能量很集中,弧區(qū)溫度在3000℃以上。對于熔煉金屬,電弧爐比其他煉鋼爐工藝靈活性大,能有效地除去硫、磷等雜質(zhì),爐溫容易控制,設(shè)備占地面積小,適于優(yōu)質(zhì)合金鋼的熔煉。 以上就是關(guān)于電弧爐的相關(guān)內(nèi)容介紹,如有需求,歡迎撥打圖片上的熱線電話! 電弧爐簡介 想要了解更多電弧爐的相關(guān)內(nèi)容,
徐州微型電弧爐公司的行業(yè)須知 沈陽鵬程真空技術(shù)公司
電弧爐的主要特點 電弧煉鋼爐以電能為主要能源。電能通過石墨電極與爐料放電拉弧,產(chǎn)生高達2000 ~ 6000℃以上的高溫,以電弧輻射、溫度對流和熱傳導(dǎo)的方式將廢鋼原料熔化。在爐料熔化時的大部分時間里,高溫?zé)嵩幢粻t料所包圍,高溫廢氣造成的熱損失相對較少,因此熱效率**轉(zhuǎn)爐等其他煉鋼設(shè)備。此外,電加熱容易準(zhǔn)確地控制爐溫,可以根據(jù)工藝要求在氧化氣氛或還原氣氛、常壓或真空等任何條件下進行加熱操作。 電弧
電弧爐發(fā)展簡史 法國海洛爾特(P.L.T.Héroult)于1888~1892年利用電極的電弧高溫,開發(fā)出煤的代替能源,發(fā)明了工業(yè)性直接冶煉的電弧爐。起初電弧爐只用于鐵合金的生產(chǎn),到 1906年才發(fā)展用來煉鋼,并因而使廢鋼得以實現(xiàn)經(jīng)濟化、規(guī)?;幕厥绽?。電弧爐通過石墨電極的端部和爐料之間發(fā)生的電弧,將電能轉(zhuǎn)換為熱能進行熔化爐料并完成其后的髙溫冶金反應(yīng)。由于它使用電能,便于調(diào)整爐內(nèi)的氣氛,因此可
小型自動磁控濺射儀 沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa 2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S 3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa; 4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度:≤5Pa 5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,
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