維爾爐業(yè)底下井式電阻爐的工藝流程及操作要點(diǎn)報(bào)告

時(shí)間：2012-09-24作者：江蘇維爾爐業(yè)有限公司瀏覽：118

維爾爐業(yè)底下井式電阻爐的工藝流程及操作要點(diǎn)報(bào)告

   ICBP系列低壓井式電阻爐結(jié)構(gòu)及工藝簡(jiǎn)介，井式電阻爐爐滲碳工藝簡(jiǎn)介 

   工藝流程：工件入裝料臺(tái)→進(jìn)入通道罐→上升至裝卸料室后抽真空→轉(zhuǎn)移工件至滲碳室加熱工件并進(jìn)行滲碳→向下移入絕熱室后輸送至氣淬室進(jìn)冷卻→出爐。 

   井式電阻爐操作要點(diǎn)：

    （1）裝卸料室：裝卸料室進(jìn)入工件后，將井式爐抽達(dá)6×102Pa,當(dāng)該室與通道罐壓力相等時(shí)，打開(kāi)真空密封閥，升降機(jī)將工件下降轉(zhuǎn)移到通道罐壓內(nèi)，并傳送到滲碳室。 

    （2）加熱滲碳室及滲碳工藝：滲碳溫度920～970 ℃ （較高溫度達(dá)1250℃）。 工件在滲碳爐爐內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)（夾具）速度為2轉(zhuǎn)/分。 通過(guò)耐熱鋼噴頭向爐內(nèi)脈沖交替通入噴入C3H8及N2，C3H8裂解后形成[C]+H2。（一般在強(qiáng)滲期通C3H8時(shí)間為1～4min,通N2擴(kuò)散時(shí)間為2～6min，隨后強(qiáng)滲期逐漸縮短，擴(kuò)散期逐漸延長(zhǎng)，具體見(jiàn)表）。 滲碳過(guò)程（包括滲碳和擴(kuò)散過(guò)程）采用溫度、時(shí)間、 C3H8及N2的流量和壓力四個(gè)參數(shù)控制。根據(jù)工件的技術(shù)要求，采用計(jì)算機(jī)模擬確定各項(xiàng)技術(shù)參數(shù)，實(shí)現(xiàn)滲碳過(guò)程的自動(dòng)化控制（發(fā)展動(dòng)態(tài)控制技術(shù)） 

     （3）井式電阻爐氣淬采用可調(diào)的（1～20）×105Pa高純N2在井式爐爐內(nèi)形成一個(gè)冷卻通道對(duì)工件進(jìn)行冷卻。

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